特許
J-GLOBAL ID：201703010636138308
極紫外光源
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-544074
公開番号（公開出願番号）：特表2017-506357
出願日： 2015年01月19日
公開日（公表日）： 2017年03月02日
要約：
プラズマに変換されたときに極紫外光を放出する材料を含み第1の方向に沿った第1の伸長及び第2の方向に沿った第2の伸長で延伸するターゲット材料がターゲット位置に提供され;増幅光ビームが伝搬の方向に沿ってターゲット位置へと導かれ;増幅光ビームが焦点面に集束される。ターゲット位置は焦点面の外部にあり、増幅光ビームとターゲット材料との間の相互作用は、ターゲット材料の少なくとも一部を、EUV光を放出するプラズマに変換する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
極紫外(EUV)光システムにおける戻り反射を減少させる方法であって、
プラズマに変換されたときに極紫外光を放出する材料を含み伝搬の方向に沿って伝搬する光を第1の方向に反射するターゲット材料を提供することと;
前記伝搬の方向に沿って伝搬する光を前記第1の方向とは異なる第2の方向に反射する光反射性表面を含む変更されたターゲットを形成するように前記ターゲット材料の幾何分布を変更することと;
光源からの増幅光ビームを、前記伝搬の方向に沿って、前記変更されたターゲットの前記反射性表面の方に導くことと、
を含み、
前記増幅光ビームは、前記変更されたターゲットの少なくとも一部をEUV光を放出するプラズマに変換し、前記第2の方向に進む前記増幅光ビームの反射を生成することによって前記反射を前記源から遠ざかるように導き、
前記増幅光ビームを前記導くことは前記増幅光ビームを焦点面に集束させることを含み、
前記変更されたターゲットは前記焦点面の外部にある、方法。
IPC (4件)：
G03F 7/20
, H05G 2/00
, H01S 3/00
, H01S 3/10
G03F7/20 503
, H05G2/00 K
, G03F7/20 521
, H01S3/00 A
, H01S3/10 Z
2H197CA10
, 2H197GA01
, 2H197GA04
, 2H197GA05
, 2H197GA24
, 2H197HA03
, 4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AA15
, 4C092AA17
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD05
, 4C092BD19
, 5F172AD05
, 5F172EE22
, 5F172NN13
, 5F172NR06
, 5F172ZZ14
