極端紫外光源装置及び極端紫外光の生成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人ウィルフォート国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-267122
公開番号（公開出願番号）：特開2010-097800
出願日： 2008年10月16日
公開日（公表日）： 2010年04月30日
要約：

【課題】本発明の極端紫外光源装置は、メインパルスレーザ光の照射前に、CW(QCWを含む)光を所定角度からターゲットに照射することにより、ターゲットを蒸発させて適切な密度及び形状を得る。【解決手段】ターゲット200がメインパルスレーザ光の集光位置に移動する軌跡AX1と、ターゲット200を加熱するためのレーザ光121の光軸AX2との角度αを、所定角度に設定する。一例として、ターゲット直径Ddp=10μmの場合、αは10度以下に、Ddp=20μmの場合、αは4度以下に、Ddp=30μmの場合、αは2度以下に、設定される。これにより、レーザ光121がターゲット200を照射する時間を長くすることができる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

レーザ光をターゲット物質に照射してプラズマ化させることにより、極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、チャンバと、前記チャンバ内に向けて、吐出口から前記ターゲット物質を供給するターゲット物質供給部と、連続光または疑似連続光のいずれかとして構成される第1レーザ光を出力する第1レーザ光源と、前記第1レーザ光を前記ターゲット物質に照射して加熱させる加熱用光学系と、前記第1レーザ光により加熱された前記ターゲット物質に、第2レーザ光を照射して前記ターゲット物質をプラズマ化させるための第2レーザ光源と、前記プラズマから放射される前記極端紫外光を集光するための集光ミラーと、を備え、前記ターゲット物質の移動する軌跡と前記ターゲット物質に照射される前記第1レーザ光の光軸との角度が、所定角度以下に設定される極端紫外光源装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531A

Fターム (6件)：

4C092AA06 , 4C092AA15 , 4C092AB21 , 4C092BD18 , 5F046GB01 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (5件)

極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-261871 出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
米国特許出願公開第2006/0255298号明細書
国際公開第2003/96764号パンフレット

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審査官引用 (8件)

先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマEUV光源
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-094892 出願人：ノースロップ・グラマン・コーポレーション
極端紫外線発生装置および該装置の極端紫外線を用いたリソグラフィー用光源への応用
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-515990 出願人：コミサリアアレネルジアトミク, アルカテルヴァキュームテクノロジーフランス
極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-082950 出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社

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