特許
J-GLOBAL ID：201703010777615681
高純度シリカゾルおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
右田 俊介
, 高橋 政治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-277817
公開番号（公開出願番号）：特開2014-122123
特許番号：特許第6047395号
出願日： 2012年12月20日
公開日（公表日）： 2014年07月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 珪酸アルカリ水溶液にイオン交換法を適用し、前記珪酸アルカリ水溶液に含まれる陽イオン成分の少なくとも一部を除去して、酸性珪酸液を得る陽イオン除去工程と、
前記酸性珪酸液にキレートイオン交換樹脂を用いたイオン交換法を適用して、高純度珪酸液を得るキレートイオン交換工程と、
前記高純度珪酸液の一部をシード液、別の一部をフィード液とし、前記シード液をアルカリ性に調整した後、これを前記フィード液と混合して、シリカdry量でのCu濃度およびNi濃度がともに100ppb以下の高純度シリカゾルを得るシリカゾル調合工程とを備え、
さらに、前記珪酸アルカリ水溶液、前記酸性珪酸液および前記高純度珪酸液からなる群から選ばれる少なくとも1つについて、プラスの電荷を有するフィルターを用いてろ過処理する操作を備える、高純度シリカゾルの製造方法。
IPC (2件)：
C01B 33/141 ( 200 6.01)
, C01B 33/151 ( 200 6.01)
C01B 33/141
, C01B 33/151
