特許
J-GLOBAL ID：201003022883954874
研磨用シリカゾル、研磨用組成物および研磨用シリカゾルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
牧村 浩次
, 高畑 ちより
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-265335
公開番号（公開出願番号）：特開2010-095568
出願日： 2008年10月14日
公開日（公表日）： 2010年04月30日
要約：
【解決手段】窒素吸着法により測定される平均粒子径が3〜100nmであるシリカ微粒子が1〜50質量%の範囲で分散媒に分散してなるシリカゾルであって、該シリカゾル中に存在する全シリカ成分の質量を(S1)、溶存シリカ成分の質量を(S2)としたとき、(S1)に占める(S2)の割合が1000ppm以下である研磨用シリカゾル、この研磨用シリカゾルを含む研磨用組成物、およびシリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカゾルを、正のゼータ電位を有するフィルタに通過させる研磨用シリカゾルの製造方法。【効果】本発明に係る研磨用シリカゾルは、従来の同等の研磨用シリカゾル等に比べ、少なくとも同等の研磨速度を示し、より効果的に線状痕の発生を抑制することができる。本発明に係る研磨用シリカゾルの製造方法によれは、前記研磨用シリカゾルを効率的に製造することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
窒素吸着法により測定される比表面積から換算される平均粒子径が3〜100nmであるシリカ微粒子がシリカ濃度1〜50質量%の範囲で溶媒に分散してなるシリカゾルであって、該シリカゾル中に存在する全シリカ成分の質量を(S1)、溶媒中に溶存してなる溶存シリカ成分の質量を(S2)としたとき、(S2)/(S1)[ppm]の値が1000ppm以下であることを特徴とする研磨用シリカゾル。
IPC (3件)：
C09K 3/14
, H01L 21/304
, B24B 37/00
C09K3/14 550D
, H01L21/304 622D
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550Z
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB02
, 3C058CB03
, 3C058DA02
, 3C058DA12
, 3C058DA17
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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