特許
J-GLOBAL ID：201703010960912040
ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-000213
公開番号（公開出願番号）：特開2012-149253
特許番号：特許第6130099号
出願日： 2012年01月04日
公開日（公表日）： 2012年08月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(a)パターン形成される1以上の層を基体の表面上に含む基体を提供し;
(b)フォトレジスト組成物の層を前記パターン形成される1以上の層上に適用し;
(c)前記フォトレジスト組成物層を化学線でパターン様式で露光し;
(d)露光した前記フォトレジスト組成物層を露光後べークプロセスにおいて加熱し;並びに
(e)有機現像剤を前記フォトレジスト組成物層に適用して、前記フォトレジスト層の一部分を除去し、それによりフォトレジストパターンを形成し、ここで前記フォトレジスト層の未露光領域が前記現像剤によって除去されて、前記フォトレジストパターンを形成する;
ことを含む、フォトリソグラフィパターンを形成する方法であって、
前記フォトレジスト組成物が、
下記一般式(I):
(式中、R1は水素、またはC1〜C3アルキル基を表し;R2は単結合、またはC1〜C10有機基を表し;R3は水素原子、またはC1〜C10有機基を表し;R4はそれぞれ独立して水素原子、またはC1〜C10有機基を表し、共通の炭素原子に結合されているこれらは場合によっては一緒になって環を形成しており;並びに、R5はそれぞれ独立してC1〜C10有機基を表し、場合によっては一緒になって環を形成している)
のモノマーから形成される第1の単位を含むポリマー、並びに
光酸発生剤、
を含む、方法。
IPC (2件)：
C08F 20/28 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
C08F 20/28
, G03F 7/038 601
出願人引用 (7件)
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特開昭57-181524
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特開昭58-065411
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特表平3-505688
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審査官引用 (13件)
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