特許
J-GLOBAL ID:201703011687769180
マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-121717
公開番号(公開出願番号):特開2014-239178
特許番号:特許第6097640号
出願日: 2013年06月10日
公開日(公表日): 2014年12月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ビームのショット毎に、荷電粒子ビームによるマルチビームの各ビームの照射時間を量子化単位で割った階調値を予め設定された桁数の2進数データに変換する工程と、
ビームの1ショットあたりの最大照射時間が、前記桁数の2進数の各桁の値をそれぞれ10進数で定義した場合に相当する階調値に量子化単位を乗じた照射時間として前記桁数個の複数の第1の照射時間に分割され、前記複数の第1の照射時間の一部の第2の照射時間がさらに複数の第3の照射時間に分割された、前記複数の第3の照射時間と分割されなかった残りの複数の第1の照射時間とを用いて、ビームのショット毎に、当該ビームの照射を前記複数の第3の照射時間の各照射ステップと分割されなかった残りの複数の第1の照射時間の各照射ステップとに分割して、少なくとも2つの照射時間による照射ステップの組み合わせにより構成される複数のグループが順に続くように、グループ毎に当該グループを構成する各照射ステップの照射時間のビームを順に試料に照射する工程と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 541 W
, G03F 7/20 504
引用特許:
前のページに戻る