特許

J-GLOBAL ID：201703012151931096

ブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造体の作製を可能にする方法

発明者： ムムタズ, ムハンマド ,  アイス, カリム ,  ブロション, シリル ,  クルテ, エリク ,  フルーリー, ギヨーム ,  ハジオアノウ, ジョルジュ ,  ナヴァロ, クリストフ ,  ニコレ, セリア ,  シュバリエ, ザビエル
出願人/特許権者： アルケマ フランス ,  セントレ ナショナル ドゥ ラ レシェルシェ サイエンティフィーク ,  アンスティチュ ポリテクニーク ドゥ ボルドー ,  ユニヴェルシテ・ドゥ・ボルドー
代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-538580
公開番号（公開出願番号）：特表2017-503042
出願日： 2014年12月11日
公開日（公表日）： 2017年01月26日
要約：

本発明は、ブロックコポリマーのブロックの少なくとも1つが、式Iに対応する少なくとも1つの環状単位を含むモノマーの重合から生じるブロックコポリマーの自己組織化による、ナノメートルサイズの構造体の作製を可能にする方法に関する。[式中、X=Si(R1,R2);Ge(R1,R2)Z=Si(R3,R4);Ge(R3,R4);O;S;C(R3,R4)Y=O;S;C(R5,R6)T=O;S;C(R7,R8)R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8は、水素、ヘテロ原子を有する又は有さない直鎖、分枝又は環状アルキル基、及びヘテロ原子を有する又は有さない芳香族基から選択される]。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ブロックコポリマーのブロックの少なくとも1つが、以下の式(I):

IPC (8件)：

C08J 5/00 ,  H01L 21/027 ,  B82Y 40/00 ,  B82Y 30/00 ,  C08L 87/00 ,  C08J 5/18 ,  H01L 21/306 ,  B05D 7/24

FI (8件)：

C08J5/00 ,  H01L21/30 502D ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  C08L87/00 ,  C08J5/18 ,  H01L21/302 105A ,  B05D7/24 302Y

Fターム (46件)：

4D075BB24Z ,  4D075BB26Z ,  4D075BB40Z ,  4D075BB57Z ,  4D075DA06 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC27 ,  4D075EA07 ,  4D075EB12 ,  4D075EB13 ,  4D075EB14 ,  4D075EB16 ,  4D075EB20 ,  4D075EB22 ,  4D075EB33 ,  4D075EB35 ,  4D075EB42 ,  4D075EB52 ,  4F071AA29 ,  4F071AA33X ,  4F071AA53 ,  4F071AA65X ,  4F071AA75 ,  4F071AG10 ,  4F071AG19 ,  4F071AG28 ,  4F071AG33 ,  4F071AG34 ,  4F071AH12 ,  4F071AH19 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BB13 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4F071BC09 ,  4F071BC12 ,  4F071BC17 ,  4J002CP011 ,  4J002GP00 ,  4J002GQ00 ,  4J002GT00 ,  4J002HA05 ,  5F004EA03 ,  5F146AA28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ミクロ相分離構造を有する高分子膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-243606   出願人：旭化成株式会社
• ブロック共重合体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-136184   出願人：ジェイエスアール株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Direct Preparation of High Surface Area Mesoporous SiC-Based Ceramic by Pyrolysis of a Self-Assemble

審査官引用 (1件)

• Direct Preparation of High Surface Area Mesoporous SiC-Based Ceramic by Pyrolysis of a Self-Assemble