特許

J-GLOBAL ID：201703012640523006

常温接合装置および常温接合方法

発明者： 津野 武志 ,  後藤 崇之 ,  木ノ内 雅人 ,  内海 淳 ,  井手 健介 ,  鈴木 毅典
出願人/特許権者： 三菱重工工作機械株式会社
代理人 (1件)： 工藤 実
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-196705
公開番号（公開出願番号）：特開2014-050860
特許番号：特許第6037734号
出願日： 2012年09月07日
公開日（公表日）： 2014年03月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 真空容器と、 前記真空容器内に設けられ、第1基板を保持する第1保持機構と、 前記真空容器内に設けられ、第2基板を保持する第2保持機構と、 前記真空容器に設けられ、前記第1基板および前記第2基板の被接合面に照射される活性化ビームを出射するビーム源と、 前記真空容器に設けられ、前記活性化ビームを照射された前記第1基板および前記第2基板の前記被接合面を重ね合わせて接合する圧接機構と を具備し、 前記真空容器、前記第1保持機構、前記第2保持機構、前記ビーム源および前記圧接機構のうちの少なくとも一つは、前記活性化ビームによりスパッタされ難い、または、前記被接合面に在っても前記第1基板および前記第2基板を接合して成るデバイスの機能を阻害しない第1材料で形成されている、または、前記第1材料を用いた被覆部材で前記活性化ビームの照射し得る面を覆われており、 前記真空容器内に設けられ、ターゲットを保持するターゲット保持機構を更に具備し、 前記ターゲット保持機構は、複数のターゲットを配置可能な複数の領域を備え、 前記複数の領域のうち、ターゲットを配置しない領域に、前記第1材料の疑似ターゲットを配置する 常温接合装置。

IPC (3件)：

B23K 20/00 ( 200 6.01) ,  B23K 20/24 ( 200 6.01) ,  H01L 21/02 ( 200 6.01)

FI (4件)：

B23K 20/00 310 L ,  B23K 20/00 310 P ,  B23K 20/24 ,  H01L 21/02 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 耐熱耐酸化性炭素膜及びその形成方法並びに耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-109997   出願人：国立大学法人神戸大学, 日本アイ・ティ・エフ株式会社
• 真空材料の表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-226934   出願人：アネルバ株式会社
• 特開平2-273537
  
• 特開平2-273537