特許
J-GLOBAL ID：201703013667576159
描画装置、及び物品の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-095960
公開番号（公開出願番号）：特開2014-216630
特許番号：特許第6193611号
出願日： 2013年04月30日
公開日（公表日）： 2014年11月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記基板上における第1方向に沿って配列された複数の荷電粒子線を射出し、且つ、前記複数の荷電粒子線の少なくとも一部をブランキングする機能と、前記複数の荷電粒子線を偏向して前記基板上における前記複数の荷電粒子線を変位させる機能とを有する荷電粒子光学系と、
前記第1方向に沿って形成された複数のショット領域に関して、前記第1方向において前記ステージの一方向の移動が連続的に行われ、前記一方向の移動中に前記基板上の目標部位に対して前記複数の荷電粒子線が選択的に多重に照射されるように前記ステージおよび前記荷電粒子光学系の制御を行う制御部と、を有し、
前記制御部は、前記複数の荷電粒子線の少なくとも一部による前記複数のショット領域のうちの第1ショット領域の描画中に前記第1方向とは逆方向における前記偏向がなされ、前記第1ショット領域の描画中に前記ステージの移動に伴って前記複数のショット領域のうちの第2ショット領域に位置する前記複数の荷電粒子線のうちの荷電粒子線をブランキングし、且つ前記複数の荷電粒子線の前記少なくとも一部による前記第1ショット領域の描画を終了した後に前記第1方向における前記偏向を行って前記複数の荷電粒子線の少なくとも一部による前記第2ショット領域の描画を開始するように、前記制御を行う、ことを特徴とする描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01J 37/305 ( 200 6.01)
H01L 21/30 541 D
, H01L 21/30 541 W
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
