特許
J-GLOBAL ID：201303072347667900
マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-190957
公開番号（公開出願番号）：特開2013-055144
出願日： 2011年09月01日
公開日（公表日）： 2013年03月21日
要約：
【目的】光学系の歪み等によるマルチビームの照射位置のずれによるパターン寸法の変動を抑制する描画装置を提供する。【構成】描画装置100は、XYステージ105と、電子銃201と、複数の穴を有し、電子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材203と、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行うブランキングプレート204と、各ビームの試料上のそれぞれの照射位置に、各ビームをまとめて偏向する偏向器208と、互いに異なる穴を通過した複数のビーム同士を試料上において所定の制御グリッド間隔で描画処理を進めるように制御する描画処理制御部18と、描画されるビーム同士の間隔が前記制御グリッド間隔からずれる場合に、ずれ量に応じて、ずれに関与するビームの照射量を可変に制御する照射量制御部16と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部を有し、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーと、
前記複数のブランカーによってビームoffの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽するブランキングアパーチャ部材と、
前記ブランキングアパーチャ部材を通過した各ビームの前記試料上のそれぞれの照射位置に、前記ブランキングアパーチャ部材を通過した各ビームをまとめて偏向する偏向器と、
前記複数の開口部のうち互いに異なる開口部を通過した複数のビーム同士を前記試料上において所定の制御グリッド間隔で描画処理を進めるように描画処理を制御する描画処理制御部と、
描画されるビーム同士の間隔が前記制御グリッド間隔からずれる場合に、ずれ量に応じて、ずれに関与するビームの照射量を可変に制御する照射量制御部と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01J 37/305
H01L21/30 541W
, G03F7/20 521
, H01J37/305 B
5C034BB10
, 5F056AA07
, 5F056AA33
, 5F056BA01
, 5F056EA03
, 5F056EA04
, 5F056EA06
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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