特許
J-GLOBAL ID：201703014052366142

太陽電池セルの製造方法

発明者：
唐木田 昇市

唐木田 昇市 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-551336
特許番号：特許第6125042号
出願日： 2013年12月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1導電型の半導体基板における受光面側となる一面側に第2導電型の不純物拡散層を形成する第1工程と、 前記半導体基板の他面側にマスクパターンを形成する第2工程と、 前記マスクパターンの厚みよりも薄い膜厚のパッシベーション膜を前記半導体基板の他面側に形成して、前記マスクパターンの側面の一部が露出するように前記マスクパターンを前記パッシベーション膜に埋設する第3工程と、 前記マスクパターンを除去することにより前記パッシベーション膜を膜厚方向に貫通して前記半導体基板の他面側を露出させる開口部を形成する第4工程と、 前記半導体基板の他面側に電気的に接続する裏面側電極を前記開口部内に埋設する第5工程と、 前記不純物拡散層に電気的に接続する受光面側電極を前記半導体基板の一面側に形成する第6工程と、 を含み、 前記第4工程では、前記マスクパターンの側面であって前記パッシベーション膜から露出した露出部より前記マスクパターンの表面に酸素を供給して前記マスクパターンを焼却により除去すること、 を特徴とする太陽電池セルの製造方法。
IPC (2件)：
H01L 31/0216 ( 201 4.01) ,  H01L 31/068 ( 201 2.01)
FI (2件)：
H01L 31/04 240 ,  H01L 31/06 300
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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