特許

J-GLOBAL ID：201703014398597795

光透過性導電性コーティング及び基板上へのそれらの堆積の方法

発明者： プルネリ ヴァレリオ ,  カリレロ アルベルト ,  ペーテルス ヤン-ヘンドリック
出願人/特許権者： フンダシオ インスティテュート デ サイエンセズ フォトニクス ,  インスティテューシオ カタラーナ デ レサーカ イ エストゥーディス アバンキャッツ ,  カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
代理人 (8件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩 ,  近藤 直樹 ,  谷口 信行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-535104
特許番号：特許第6107829号
出願日： 2012年10月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板の後面上に堆積させたコーティングを含むフォトリソグラフィマスクのための基板であって、 前記コーティングは、 a.少なくとも1つの金属を含む少なくとも1つの第1の層、及び少なくとも1つの金属窒化物を含む少なくとも1つの第2の層を含み、ここで、前記少なくとも1つの第1の層は、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、又はチタン(Ti)を含む少なくとも1つの導電層、 を含み、 b.前記少なくとも1つの導電層の厚みが、30nmよりも小さい、 c.前記少なくとも1つの導電層は、300nm〜1100nmの波長領域において、20%よりも高い光透過率を含み、 d.前記少なくとも1つの第2の層は、前記少なくとも1つの第1の層を保護する、 ことを特徴とする基板。

IPC (2件)：

G03F 1/24 ( 201 2.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 1/24 ,  G03F 7/20 503

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭58-024143
  
• X線露光用マスク及びそれを用いたX線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-298954   出願人：キヤノン株式会社
• マスクブランクスとその製造方法及び使用方法、並びにマスクとその製造方法及び使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-085976   出願人：株式会社東芝
• 特許第5082857号
  

審査官引用 (5件)

• マスクブランクスとその製造方法及び使用方法、並びにマスクとその製造方法及び使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-085976   出願人：株式会社東芝
• 特開昭58-024143
  
• 特開昭58-024143
  
• 特許第5082857号
  
• X線露光用マスク及びそれを用いたX線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-298954   出願人：キヤノン株式会社