特許
J-GLOBAL ID：201703014883342142
インプリントモールドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
太田 昌孝
, 米田 潤三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-001012
公開番号（公開出願番号）：特開2014-135313
特許番号：特許第6127517号
出願日： 2013年01月08日
公開日（公表日）： 2014年07月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 凹凸構造が形成されたマスターモールドの一方の面と第1基板の一方の面との間に被転写材料を介在させて、前記マスターモールドの凹凸構造を反転させた第1反転凹凸構造を有する第1転写層を形成する第1転写層形成工程と、
前記第1転写層と前記マスターモールドとを離し、前記第1転写層を備えた前記第1基板を得る第1剥離工程と
を含み、
前記マスターモールドは、ウェハにより構成されてなり、
前記マスターモールドの凹凸構造は、電子線リソグラフィ法と、側壁法及び/又は自己組織化法との組み合わせにより、前記マスターモールドの一方の面に形成されてなり、
前記第1基板の一方の面に対向する他方の面側に凹構造が形成されており、
前記凹構造の平面視における大きさは、前記第1反転凹凸構造の形成される領域を前記他方の面側に投影した投影領域が前記凹構造の外形で規定される領域に物理的に包含される大きさである
ことを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B29C 33/38 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, B29C 33/38
