特許
J-GLOBAL ID：201703015104688832
CVD装置、及び、CVD膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-546277
特許番号：特許第6088247号
出願日： 2012年05月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】流路板を所定枚数積み重ねて構成され、前記流路板のガス出口側端面に、中空部を有するセラミック部材の該中空部内に電極線が非接触状態で配置されてなる放電電極が設けられていることを特徴とするプラズマCVD装置。
IPC (7件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H05H 1/24 ( 200 6.01)
, H01L 31/0216 ( 201 4.01)
, H01L 21/318 ( 200 6.01)
, C23C 16/505 ( 200 6.01)
, C23C 16/42 ( 200 6.01)
, C23C 16/455 ( 200 6.01)
H01L 21/31 C
, H05H 1/24
, H01L 31/04 240
, H01L 21/318 B
, C23C 16/505
, C23C 16/42
, C23C 16/455
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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