特許
J-GLOBAL ID：201703015459947189
基板処理装置および基板処理システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-166924
公開番号（公開出願番号）：特開2014-027143
特許番号：特許第6050630号
出願日： 2012年07月27日
公開日（公表日）： 2014年02月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に所定の処理を行う装置であって、
開閉可能な上蓋と、矩形状の基板を支持する支持手段が設けられた基台とを備え、前記上蓋が前記基台に載置されることで密閉状態の基板収容空間が形成されるチャンバーと、
前記基台の上方に定められた搬送位置において、前記チャンバーの外部から搬入される前記基板および前記チャンバーの外部へと搬出される前記基板を下方から支持して搬送するコンベアと、
前記コンベアを前記搬送位置と前記チャンバー外の待避位置との間で移動可能なコンベア移動機構と、
前記コンベアに対して固定され、前記基板が搬送される方向に沿って延在され、搬入された前記基板の姿勢を修正する基板ガイドと、
を備え、
前記コンベア移動機構は、前記基板が搬送される際には前記コンベアを前記搬送位置に移動させ、前記基板が前記支持手段によって支持されて前記密閉状態とされた前記チャンバー内において前記基板に対し所定の処理が行われる際には前記コンベアを前記待避位置に移動させる、
ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, F26B 5/04 ( 200 6.01)
, F26B 25/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, H01L 21/677 ( 200 6.01)
H01L 21/304 648 A
, F26B 5/04
, F26B 25/00 J
, H01L 21/304 651 K
, H01L 21/30 567
, H01L 21/68 A
