特許
J-GLOBAL ID：200903006326075276

基板処理装置、基板処理方法、基板の製造方法及び電子機器

発明者：
伊藤 美岳

伊藤 美岳 について


出願人/特許権者：
伊藤 美岳

伊藤 美岳 について


代理人 (1件)： 青木 宏義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-340267
公開番号（公開出願番号）：特開2008-166820
出願日： 2007年12月28日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
【課題】最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより装置の配置構成に自由度を向上させ、装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプリントを小さくすること。【解決手段】被処理基板Gに対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部21〜23と、この処理部配置部内に設けられ前記被処理基板を搬送する第1の搬送機構と、この処理部配置部外かつ前記一方のほぼ延長線上に固定してまたは前記一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定してまたは/及び前記一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ前記第1の搬送機構に対して直接或いは間接的に前記被処理基板を受け渡し自在に構成された第2の搬送機構11〜15と、を具備する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理基板をローラ搬送で搬送するローラ搬送機構を内部に備えるとともに被処理基板をローラにて搬送しつつ前記被処理基板に対して洗浄処理を施す洗浄処理部と、この洗浄処理部からの前記被処理基板を実質的に搬出するための前記ローラ搬送機構からの被処理基板の搬送を実質的に継続して被処理基板の搬送を行うローラ搬送機構を備えた被処理基板搬出部と、この被処理基板搬出部の外部かつ前記ローラ搬送機構の前記被処理基板の搬送方向側に設けられ被処理基板を搬送自在に構成された第一の非自走式の搬送機構と、この第一の非自走式の搬送機構の前記ローラ搬送機構の前記被処理基板の搬送方向側に設けられ被処理基板を搬送する搬送機構を内部に備えるとともに前記搬送機構にて搬送される被処理基板に対してレジストを塗布する処理を施すレジスト塗布処理部と、被処理基板を搬送自在に構成された第二の非自走式の搬送機構と、この第二の非自走式の搬送機構の前記ローラ搬送機構の前記被処理基板の搬送方向側とは異なる方向側に設けられ第二の非自走式の搬送機構と被処理基板をローラ搬送で搬送するローラ搬送機構を内部に備えるとともに被処理基板をローラにて搬送される前記被処理基板に対して現像処理を施す現像処理部と、この現像処理部に対し前記被処理基板を前記現像処理部に実質的に搬入するための前記現像処理部のローラ搬送機構に対して被処理基板の搬送を実質的に行うローラ搬送機構を備えた被処理基板搬入部と、この被処理基板搬入部または/及び前記被処理基板搬出部の上部に実質的に積層され被処理基板に対して所定の熱処理を施す複数の熱処理装置を積層して構成された熱処理部と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (10件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  B05C 9/14 ,  B05C 11/08 ,  B05C 13/02 ,  B05D 7/00 ,  B05D 7/24
FI (10件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A ,  B65G49/00 A ,  B65G49/06 Z ,  B65G49/07 B ,  B05C9/14 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02 ,  B05D7/00 H ,  B05D7/24 301Z
Fターム (62件)：
4D075AC64 ,  4D075AC73 ,  4D075AC74 ,  4D075AC79 ,  4D075AC86 ,  4D075BB21Z ,  4D075BB24Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB56Z ,  4D075BB65X ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA45 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042BA19 ,  4F042BA25 ,  4F042DA01 ,  4F042DB17 ,  4F042DF01 ,  4F042DF15 ,  4F042DF32 ,  4F042DF34 ,  4F042EB21 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA05 ,  5F031DA13 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA53 ,  5F031HA13 ,  5F031HA28 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA48 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031MA09 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F031NA09 ,  5F031NA17 ,  5F031PA18 ,  5F031PA26 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特開平2-144333号公報
審査官引用 (18件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-256565   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-057303   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-322420   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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