特許
J-GLOBAL ID：200903084543378270

表面処置用設置・取り出し方法及び装置

発明者：
真弓 聡

真弓 聡 について

, 
斎藤 直道

斎藤 直道 について


出願人/特許権者：
積水化学工業株式会社

積水化学工業株式会社 について


代理人 (2件)： 渡辺 昇 ,  原田 三十義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-241141
公開番号（公開出願番号）：特開2008-063048
出願日： 2006年09月06日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：
【課題】表面処理すべき被処理物の設置部の内側部に、処理ムラを惹き起こす昇降ピンを設ける必要をなくす。【解決手段】被処理物を設置するための設置部20の対向する一対の側部に外端支持手段50を設ける。昇降機構54によって、外端支持手段50を設置部20の設置面より突出した上位置と設置面より引っ込んだ下位置の間で昇降可能にする。上位置の外端支持手段50により被処理物Wの外端部が支持されるようにする。設置部20には、複数の小孔24を分散して形成する。この小孔24に流路構造60を接続し、小孔24から加圧流体を噴出させ、被処理物Wの内側部を非接触支持する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
被処理物を表面処理用の設置部に設置する方法であって、 前記被処理物の外端部を前記設置部より上側で接触支持した状態で、前記被処理物を前記設置部に接近させる接近工程と、 前記接近工程において前記設置部に設けた小孔から加圧流体を上側へ噴き出す噴出工程と、 を実行することを特徴とする被処理物の設置方法。
IPC (4件)：
B65G 49/06 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/683 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
B65G49/06 Z ,  H01L21/68 A ,  H01L21/68 P ,  H01L21/302 101E
Fターム (27件)：
4K030CA06 ,  4K030CA17 ,  4K030FA01 ,  4K030GA01 ,  4K030GA12 ,  5F004AA16 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC06 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031GA02 ,  5F031GA53 ,  5F031GA63 ,  5F031HA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA32 ,  5F031HA34 ,  5F031HA60 ,  5F031LA03 ,  5F031MA13 ,  5F031MA21 ,  5F031MA32 ,  5F031PA13
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • FPD製造装置の基板支持手段
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-391363   出願人：株式会社アドヴァンスド・ディスプレイ・プロセス・エンジニアリング
  • 表面処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-191355   出願人：積水化学工業株式会社
  • 処理装置および処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-026696   出願人：大日本印刷株式会社
審査官引用 (2件)
  • 描画装置の基板の搬送機構
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-084858   出願人：ペンタックス株式会社
  • ホルダ装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-001029   出願人：オリンパス光学工業株式会社

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