特許
J-GLOBAL ID：201703015506434950
薄膜形成装置、薄膜形成方法及び光学膜厚モニタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
佐藤 隆久
, 飯島 康弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-002904
公開番号（公開出願番号）：特開2014-133926
特許番号：特許第6099982号
出願日： 2013年01月10日
公開日（公表日）： 2014年07月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 成膜チャンバーと、
前記成膜チャンバー内に設けられた成膜材料供給部と、
前記成膜チャンバー内に設けられ、複数枚の成膜対象基板を膜形成面が前記成膜材料供給部側に臨むように保持し、ドーム状の形状または平面円板形状を有してドームの頂部または平面円板の中心を回転中心として回転される基板ホルダと、
回転される前記基板ホルダの外周部に円状に保持された複数枚の前記成膜対象基板にモニタ光をトレースするように投光する投光部と、
前記成膜対象基板を透過した前記モニタ光を受光して前記モニタ光を多波長で検出し、前記各成膜対象基板の多波長での光透過率が反映された受光信号を出力する受光部と、
前記基板ホルダの回転に同期した回転する前記基板ホルダの位置を特定するためのトリガー信号を出力するトリガー信号出力部と、
前記受光信号と前記トリガー信号が入力され、前記受光信号と前記トリガー信号を信号処理して成膜対象基板毎の光透過率を取得する信号処理部と、
を有し、
前記信号処理部は、
前記基板ホルダの回転に同期した前記トリガー信号から、回転する前記基板ホルダの位置を特定することで、各成膜対象基板の光透過率が間欠的に反映された受光信号のどの部分がいずれの成膜対象基板に対する光透過率であるか特定し、前記受光信号のどの部分がいずれの成膜対象基板に対する光透過率であるか特定する
薄膜形成装置。
IPC (2件)：
C23C 14/54 ( 200 6.01)
, G02B 5/28 ( 200 6.01)
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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