特許
J-GLOBAL ID:201703015755111550
グラファイト膜の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
籾井 孝文
, 吉田 昌靖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-012293
公開番号(公開出願番号):特開2017-132648
出願日: 2016年01月26日
公開日(公表日): 2017年08月03日
要約:
【課題】可燃性ガスを使用することなく、比較的温和な温度環境下において、不純物の混入が低減された高品質のグラファイト膜を、任意の基板の表面の任意の部分に任意の層数で製膜する方法を提供する。【解決手段】本発明の第一のグラファイト膜の製造方法は、加熱および/または光照射によって同一分子同士および/または異なる分子間で縮合反応が起きる化合物(A)に加熱および/または光照射を行うことにより、グラファイト構造を形成する。本発明の第二のグラファイト膜の製造方法は、加熱および/または光照射によって同一分子同士および/または異なる分子間で縮合反応が起きる化合物(A)を溶媒に分散および/または溶解させた組成物を基板に塗布した後、加熱および/または光照射することにより、グラファイト構造を形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
加熱および/または光照射によって同一分子同士および/または異なる分子間で縮合反応が起きる化合物(A)に加熱および/または光照射を行うことにより、グラファイト構造を形成する、グラファイト膜の製造方法。
IPC (4件):
C01B 32/205
, H01L 21/205
, H01L 21/208
, C23C 16/26
FI (5件):
C01B31/04 101Z
, H01L21/205
, H01L21/208 Z
, H01L21/208 D
, C23C16/26
Fターム (32件):
4G146AA02
, 4G146AB07
, 4G146AC16B
, 4G146AD13
, 4G146AD22
, 4G146AD26
, 4G146AD30
, 4G146BA11
, 4G146BA20
, 4G146BA38
, 4G146BB04
, 4G146BB05
, 4G146BC03
, 4G146BC23
, 4G146BC33B
, 4K030AA09
, 4K030AA18
, 4K030BA27
, 4K030CA02
, 4K030FA06
, 4K030FA10
, 5F045AB07
, 5F045AC07
, 5F045BB07
, 5F045BB20
, 5F045HA16
, 5F053AA03
, 5F053AA06
, 5F053AA50
, 5F053DD20
, 5F053FF01
, 5F053PP03
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
グラフェンナノリボンの製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2015-532538
出願人:ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピア, エーエムペーアー・アイトゲネーシッシェ・マテリアルプリューフングス-ウント・フォルシュングスアンシュタルト
-
単結晶グラファイト膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-229947
出願人:梅野正義
-
特開昭61-275114
全件表示
前のページに戻る