特許
J-GLOBAL ID：201703016040001036

イプシロン酸化鉄とその製造方法、磁性塗料および磁気記録媒体

発明者：
大越 慎一

大越 慎一 について

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岡 俊介

岡 俊介 について

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生井 飛鳥

生井 飛鳥 について

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正田 憲司

正田 憲司 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 東京大学

国立大学法人 東京大学 について

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DOWAエレクトロニクス株式会社

DOWAエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (2件)： 阿仁屋 節雄 ,  奥山 知洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-116784
公開番号（公開出願番号）：特開2017-001944
出願日： 2016年06月13日
公開日（公表日）： 2017年01月05日
要約：
【課題】10〜18nmの平均粒径を有し、鉄元素の一部が置換元素で置換された、保磁力が14kOe以下のイプシロン酸化鉄であって、当該粒径の変動係数が40%以下であるイプシロン酸化鉄と、その製造方法を提供する。【解決手段】酸化水酸化鉄へ置換元素である金属を被着させ、前記金属が被着した酸化水酸化鉄を得る工程と、前記金属が被着した酸化水酸化鉄を、シリコン酸化物でコーティングし、前記シリコン酸化物でコーティングされた酸化水酸化鉄を得る工程と、前記シリコン酸化物でコーティングされた酸化水酸化鉄を酸化性雰囲気下で熱処理する工程とを有し、鉄元素の一部が前記置換元素で置換されたイプシロン酸化鉄を製造することを特徴とするイプシロン酸化鉄の製造方法を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
酸化水酸化鉄へ置換元素である金属化合物を被着させ、前記金属化合物が被着した酸化水酸化鉄を得る工程と、 前記金属化合物が被着した酸化水酸化鉄を、シリコン酸化物でコーティングし、前記シリコン酸化物でコーティングされた酸化水酸化鉄を得る工程と、 前記シリコン酸化物でコーティングされた酸化水酸化鉄を酸化性雰囲気下で熱処理する工程とを有し、 鉄元素の一部が前記置換元素で置換されたイプシロン酸化鉄を製造することを特徴とするイプシロン酸化鉄の製造方法。
IPC (9件)：
C01G 49/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 201/00 ,  G11B 5/706 ,  G11B 5/712 ,  G11B 5/714 ,  G11B 5/84 ,  C01G 51/00
FI (10件)：
C01G49/00 A ,  C09D5/00 Z ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  G11B5/706 ,  G11B5/712 ,  G11B5/714 ,  G11B5/84 Z ,  C01G51/00 B ,  C01G49/00 E
Fターム (24件)：
4G002AA06 ,  4G002AB02 ,  4G002AE02 ,  4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC03 ,  4G048AD04 ,  4G048AE05 ,  4G048AE06 ,  4G048AE07 ,  4J038CD021 ,  4J038KA06 ,  4J038NA17 ,  4J038PB11 ,  5D006BA06 ,  5D006BA07 ,  5D006BA08 ,  5D006EA01 ,  5D112AA05 ,  5D112AA22 ,  5D112BB04 ,  5D112BB06 ,  5D112BB12 ,  5D112GB01
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 磁性材料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-096907   出願人：国立大学法人東京大学, DOWAエレクトロニクス株式会社
  • 磁性材料並びにそれを用いたメモリーおよびセンサ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-224954   出願人：国立大学法人東京大学, DOWAエレクトロニクス株式会社
  • 磁性材料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-234958   出願人：国立大学法人東京大学, DOWAエレクトロニクス株式会社
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審査官引用 (2件)

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