特許
J-GLOBAL ID：201703017832418216

基板処理システム及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体

発明者：
毛利 信彦

毛利 信彦 について

, 
小原 隆憲

小原 隆憲 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 内野 美洋
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-187301
公開番号（公開出願番号）：特開2015-056431
特許番号：特許第6069140号
出願日： 2013年09月10日
公開日（公表日）： 2015年03月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を処理液で処理する基板処理システムにおいて、 前記基板を基板保持部で保持する基板保持機構と、 前記基板に向けて処理液を供給する処理流体供給部と、 前記処理流体供給部から供給された処理液を前記基板の外周外方で回収する回収カップと、 前記回収カップを前記基板保持部に対して相対的に昇降させる回収カップ昇降機構と、 前記回収カップの内周面に向けて洗浄液を供給する回収カップ洗浄液供給部と、 前記回収カップ昇降機構と回収カップ洗浄液供給部を制御する制御装置と、 を備え、 前記回収カップ洗浄液供給部は、洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルを昇降させる洗浄ノズル昇降機構とを有し、 前記制御装置は、 前記回収カップ昇降機構によって前記回収カップを前記基板保持部の位置よりも下側に降下させ、前記回収カップ洗浄液供給部によって前記降下された回収カップの内周面に向けて洗浄液を供給させて、前記基板保持部の位置よりも下側の位置で前記回収カップの内周面を洗浄し、前記回収カップの内周面の洗浄時に、前記洗浄ノズル昇降機構によって前記洗浄ノズルを昇降させることを特徴とする基板処理システム。
IPC (1件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (1件)：
H01L 21/304 643 Z
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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