特許
J-GLOBAL ID:201703018424254074
像加熱装置及び像加熱装置に用いるヒータ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-138756
公開番号(公開出願番号):特開2017-054103
出願日: 2016年07月13日
公開日(公表日): 2017年03月16日
要約:
【課題】 ヒータの温度ムラを低減する。【解決手段】 本発明のヒータは、基板と、基板に基板の長手方向に沿って設けられた第1導電体及び第2導電体と、第1導電体と第2導電体の間に設けられており第1導電体と第2導電体を介して供給される電力により発熱する発熱体と、電力を供給するための導電部材が接続される電極と、を有し、発熱体の電極が設けられた位置に対応する領域の発熱量がその他の領域の発熱量よりも大きく設定されているものである。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
基板と、
前記基板に前記基板の長手方向に沿って設けられた第1導電体と、
前記基板の前記第1導電体とは前記基板の短手方向で異なる位置に設けられた第2導電体と、
前記第1導電体と前記第2導電体の間に設けられており前記第1導電体と前記第2導電体を介して供給される電力により発熱する発熱体と、
前記発熱体へ電力を供給するための導電部材が接続される電極と、
を有する像加熱装置に用いられるヒータにおいて、
前記発熱体の前記電極が設けられた位置に対応する領域の発熱量がその他の領域の発熱量よりも大きく設定されていることを特徴とするヒータ。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
2H033AA03
, 2H033BA25
, 2H033BA27
, 2H033BA32
, 2H033BB18
, 2H033BB21
, 2H033BB22
, 2H033BB28
, 2H033BE03
引用特許:
審査官引用 (5件)
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ヒータ及び像加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-147066
出願人:キヤノン株式会社
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加熱体、及び加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-316922
出願人:キヤノン株式会社
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画像形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2014-000232
出願人:株式会社リコー
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