特許
J-GLOBAL ID：201703018733205797
電子ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-098559
公開番号（公開出願番号）：特開2017-208402
出願日： 2016年05月17日
公開日（公表日）： 2017年11月24日
要約：
【課題】電子ビームを被描画試料に照射することにより所望のパターンの描画を行う電子ビーム描画装置において、フォギング現象による描画精度の低下、すなわちレジストパターンの設計パターンとの寸法ずれやばらつきを抑える電子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】電子ビームの被描画試料への照射時に被描画試料から発生する反射電子および二次電子を吸収するための電子反射防止板を備え、前記電子反射防止板を正に帯電させる機構を具備することを特徴とする電子ビーム描画装置とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電子ビームを、被描画試料に照射することにより、所望のパターンの描画を行う電子ビーム描画装置において、
前記電子ビームの照射時に前記被描画試料から発生する反射電子および二次電子を吸収する電子反射防止板を備え、前記電子反射防止板を正に帯電させる機構を具備することを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01J 37/305
H01L21/30 541Z
, G03F7/20 504
, H01J37/305 B
5C034BB06
, 5F056AA01
, 5F056CB40
, 5F056EA18
