特許
J-GLOBAL ID：201703018942112992

自己修復材料及びその製造方法

発明者：
原田 明

原田 明 について

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▲高▼島 義徳

▲高▼島 義徳 について

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中畑 雅樹

中畑 雅樹 について

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小野 肇

小野 肇 について

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高橋 宏明

高橋 宏明 について

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白川 瑛規

白川 瑛規 について


出願人/特許権者：
国立大学法人大阪大学

国立大学法人大阪大学 について

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ユシロ化学工業株式会社

ユシロ化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-199945
公開番号（公開出願番号）：特開2017-071710
出願日： 2015年10月08日
公開日（公表日）： 2017年04月13日
要約：
【課題】時間の経過や温度環境等が変化しても自己修復機能が損なわれにくい自己修復材料及びこの自己修復材料の製造方法を提供する。【解決手段】自己修復材料は、高分子ゲルを含んで構成され、前記高分子ゲルは、ホスト基及びゲスト基による相互作用によって架橋された架橋構造体と、水よりも沸点が高い親水性の溶媒とを含む。上記自己修復材料の製造方法は、ホスト基及びゲスト基による相互作用によって架橋された架橋構造体及び水を含むヒドロゲルを、水よりも沸点が高い親水性の溶媒に浸漬することにより、前記水の一部又は全部を前記溶媒に置換して前記高分子ゲルを製造する工程を具備する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
高分子ゲルを含んで構成される自己修復材料であって、 前記高分子ゲルは、ホスト基及びゲスト基による相互作用によって架橋された架橋構造体と、水よりも沸点が高い親水性の溶媒とを含む、自己修復材料。
IPC (3件)：
C08L 101/00 ,  C08K 5/04 ,  C08L 71/02
FI (3件)：
C08L101/00 ,  C08K5/04 ,  C08L71/02
Fターム (24件)：
4J002AA001 ,  4J002AA002 ,  4J002AB051 ,  4J002BG011 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002CH022 ,  4J002EC046 ,  4J002EC056 ,  4J002ED026 ,  4J002ED036 ,  4J002FD202 ,  4J002FD206 ,  4J002GB01 ,  4J002GC00 ,  4J002GE00 ,  4J002GH00 ,  4J002GN00 ,  4J002GP00 ,  4J002GQ00 ,  4J002GT00 ,  4J002HA00
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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