特許
J-GLOBAL ID：201203044202991945

ロタキサン、架橋剤、架橋方法、架橋ポリマー及び架橋ポリマーの分解方法

発明者：
山縣 悠介

山縣 悠介 について

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高田 十志和

高田 十志和 について

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▲高▼坂 泰弘

▲高▼坂 泰弘 について


出願人/特許権者：
株式会社ブリヂストン

株式会社ブリヂストン について

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国立大学法人東京工業大学

国立大学法人東京工業大学 について


代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  冨田 和幸 ,  吉田 憲悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-091486
公開番号（公開出願番号）：特開2012-224559
出願日： 2011年04月15日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：
【課題】有既存のモノマーとの重合によって架橋度及び性質が制御された機械的な架橋構造を持つ架橋ポリマーを製造できるとともに、該架橋ポリマーを解架橋できるロタキサン、該ロタキサンからなる架橋剤、該架橋剤を利用した架橋方法、該架橋方法により架橋して得られた架橋ポリマー、及び該架橋ポリマーの分解方法を提供することにある。【解決手段】少なくとも1つの重合活性基を有する2つのクラウンエーテル分子からなる輪成分と、該輪成分の空孔部分を貫通する、特定構造の軸成分とを備えることを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
少なくとも1つの重合活性基を有する2つのクラウンエーテル分子からなる輪成分と、 該輪成分の空孔部分を貫通する、一般式(I) [R1-R2-N+H2-R3-N+H2-R2-R4]・2X- ・・・(I) (式中、R1はクラウンエーテルの空孔以上の嵩高さをもつ一価の基であり、R2はクラウンエーテルの空孔を貫通する二価の基からなる直鎖部であり、R3は二価の基、R4はクラウンエーテルの空孔と相補的な嵩高さをもつ一価の基、X-は一価の陰イオンである。) で表される軸成分とを備えることを特徴とするロタキサン。
IPC (5件)：
C07D 323/00 ,  C07C 271/28 ,  C08F 20/30 ,  C08F 8/50 ,  C08F 220/30
FI (5件)：
C07D323/00 ,  C07C271/28 ,  C08F20/30 ,  C08F8/50 ,  C08F220/30
Fターム (23件)：
4C022NA02 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006RA36 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL66P ,  4J100AM19Q ,  4J100BA32P ,  4J100BA38P ,  4J100BC43P ,  4J100BC44P ,  4J100BC52P ,  4J100CA04 ,  4J100CA23 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA25 ,  4J100HA51 ,  4J100HC43 ,  4J100HE14
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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