特許
J-GLOBAL ID：201703019308206565
基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-289140
公開番号（公開出願番号）：特開2013-152775
特許番号：特許第6141636号
出願日： 2012年12月28日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】研磨砥粒を含むスラリーと、一対の研磨パッドが配備された定盤とを用いて、前記スラリーを前記研磨パッドと基板の間へ供給しつつ、前記一対の研磨パッドで前記基板の主表面を挟んで研磨する研磨処理と、該研磨処理の後に実施され、加工圧力が2kPa〜6kPa、且つ、スラリー中の砥粒濃度が0(零)超、5重量%以下、且つ、定盤の単位面積当りに供給されるスラリー流量が0.25ml/分/cm2〜5ml/分/cm2で、基板の主表面を処理するリンス処理を含み、
前記リンス処理のスラリー中の砥粒濃度を前記研磨処理のスラリー中の砥粒濃度に対する濃度比として、前記リンス処理のスラリー中の砥粒濃度を前記研磨処理のスラリー中の砥粒濃度で除した比で表したとき、この濃度比が0.5以下である
ことを特徴とする基板の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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