基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：志賀正武 , 高橋詔男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-515508
特許番号：特許第6123797号
出願日： 2013年01月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】可撓性を有する長尺の基板を、回転可能な転動体の円周面の一部で支持した状態で、前記長尺の方向に搬送すると共に、回転可能な回転マスクの周面に形成されたパターンを、前記基板の被処理面に繰り返し転写する基板処理装置であって、前記回転マスクの外周面の転写に関与する部分と前記基板の被処理面とが所定の間隔で配置されるように、前記回転マスクを第1の回転軸を中心として回転可能に前記転動体に対して支持するマスク保持部と、前記基板と前記マスク保持部との間に気体を供給する為に、前記気体の噴出部分に多孔質部材を用いた気体供給部と、前記転動体及び前記回転マスクの一方の回転力を他方の回転力として磁力で伝達する伝達機構と、を備える基板処理装置。

IPC (2件)：