特許
J-GLOBAL ID:201703020135598177
研磨パッド
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-070845
公開番号(公開出願番号):特開2017-177301
出願日: 2016年03月31日
公開日(公表日): 2017年10月05日
要約:
【課題】スクラッチの発生を防止できる研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨層および基材120を有する研磨パッド100において、該研磨層は、樹脂シート110より構成されており、該研磨層におけるヒンダードフェノール系酸化防止剤の含有量が、該樹脂シート110の全量(100質量%)に対して、0.1〜5.0質量%、好ましくは0.5〜3.0質量%であり、より好ましくは0.5〜2.0質量%であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
樹脂とヒンダードフェノール系酸化防止剤0.1〜5.0質量%と、を含有する研磨層を有する、研磨パッド。
IPC (2件):
FI (2件):
B24B37/00 N
, H01L21/304 622F
Fターム (18件):
3C158AA07
, 3C158AA09
, 3C158AC04
, 3C158CA01
, 3C158CB01
, 3C158CB10
, 3C158DA12
, 3C158DA17
, 3C158EA11
, 3C158EB01
, 3C158EB12
, 3C158EB20
, 3C158EB28
, 3C158EB29
, 5F057AA03
, 5F057AA24
, 5F057DA03
, 5F057EB03
引用特許:
前のページに戻る