特許
J-GLOBAL ID:201703020135598177

研磨パッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-070845
公開番号(公開出願番号):特開2017-177301
出願日: 2016年03月31日
公開日(公表日): 2017年10月05日
要約:
【課題】スクラッチの発生を防止できる研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨層および基材120を有する研磨パッド100において、該研磨層は、樹脂シート110より構成されており、該研磨層におけるヒンダードフェノール系酸化防止剤の含有量が、該樹脂シート110の全量(100質量%)に対して、0.1〜5.0質量%、好ましくは0.5〜3.0質量%であり、より好ましくは0.5〜2.0質量%であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
樹脂とヒンダードフェノール系酸化防止剤0.1〜5.0質量%と、を含有する研磨層を有する、研磨パッド。
IPC (2件):
B24B 37/24 ,  H01L 21/304
FI (2件):
B24B37/00 N ,  H01L21/304 622F
Fターム (18件):
3C158AA07 ,  3C158AA09 ,  3C158AC04 ,  3C158CA01 ,  3C158CB01 ,  3C158CB10 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158EA11 ,  3C158EB01 ,  3C158EB12 ,  3C158EB20 ,  3C158EB28 ,  3C158EB29 ,  5F057AA03 ,  5F057AA24 ,  5F057DA03 ,  5F057EB03
引用特許:
審査官引用 (10件)
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