特許

J-GLOBAL ID：201703020189010809

めっき装置およびめっき方法

発明者： 錦内 栄史 ,  上代 和男
出願人/特許権者： 株式会社SCREENホールディングス
代理人 (3件)： 振角 正一 ,  梁瀬 右司 ,  大西 一正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-029468
公開番号（公開出願番号）：特開2017-145482
出願日： 2016年02月19日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
要約：

【課題】基板サイズを問わず、基板の一方主面の被めっき領域に対してめっき処理を良好に行う。【解決手段】被めっき領域を取り囲む形状を有する枠体と、被めっき領域を上方に向けた状態で基板の他方主面を支持しながら基板を枠体の下方位置に搬送する搬送部と、枠体に対して基板を相対的に上昇させて枠体と被めっき領域とでめっき液を貯留する貯留空間を形成する昇降部と、貯留空間にめっき液を供給する供給部と、被めっき領域に電気的に接続されるカソード電極と、貯留空間に貯留されためっき液に接液するアノード電極とを備え、昇降部および搬送部のうち少なくとも一方で基板の他方主面を下方から支持しながらカソード電極とアノード電極との間に電流を流してめっき処理を行う。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基板の一方主面の被めっき領域にめっき処理を施すめっき装置であって、 前記被めっき領域を取り囲む形状を有する枠体と、 前記被めっき領域を上方に向けた状態で前記基板の他方主面を支持しながら前記基板を前記枠体の下方位置に搬送する搬送部と、 前記枠体に対して前記基板を相対的に上昇させて前記枠体と前記被めっき領域とでめっき液を貯留する貯留空間を形成する昇降部と、 前記貯留空間にめっき液を供給する供給部と、 前記被めっき領域に電気的に接続されるカソード電極と、 前記貯留空間に貯留されためっき液に接液するアノード電極とを備え、 前記昇降部および前記搬送部のうち少なくとも一方で前記基板の他方主面を下方から支持しながら前記カソード電極と前記アノード電極との間に電流を流して前記めっき処理を行うことを特徴とするめっき装置。

IPC (6件)：

C25D 17/06 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  C25D 17/00 ,  C25D 5/02 ,  C25D 7/12

FI (6件)：

C25D17/06 H ,  H01L21/304 643B ,  B08B3/02 C ,  C25D17/00 G ,  C25D5/02 A ,  C25D7/12

Fターム (33件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  4K024BA11 ,  4K024BA15 ,  4K024BB09 ,  4K024BB12 ,  4K024CB01 ,  4K024FA02 ,  5F157AA42 ,  5F157AA43 ,  5F157AA84 ,  5F157AA97 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB48 ,  5F157AB52 ,  5F157AB84 ,  5F157AB94 ,  5F157AC53 ,  5F157BB23 ,  5F157BE12 ,  5F157CB01 ,  5F157CB16 ,  5F157CF04 ,  5F157DC84

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-082843   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-152591   出願人：株式会社荏原製作所