特許
J-GLOBAL ID：201703020242487566
非水酸性ガス除去システムにおける水分制御
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 結城 仁美
, 高橋 林太郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-547074
公開番号（公開出願番号）：特表2017-506150
出願日： 2015年02月13日
公開日（公表日）： 2017年03月02日
要約：
【課題】酸性ガス除去プロセスにおける水分制御方法及び水分制御システムを提供する。【解決手段】本方法及びシステムは、(a)吸収ゾーンにおいてガス流をNAS吸収液で処理するステップと、(b)酸性ガスが付加されたNAS吸収液を再生ゾーンに送るステップと、(c)再生NAS吸収液を前記ステップ(a)に送るステップと、(d)第1組の条件及び第2組の条件を制御するステップとを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水分量を調節し、非水溶媒(NAS)吸収液を使用して含水ガス流から酸性ガスを除去するプロセスであり、
(a)吸収ゾーンにおいて、温度、圧力、及び流量に関する第1組の制御された条件下で、前記ガス流を前記NAS吸収液で処理することにより、酸性ガスを欠乏させた処理ガス流及び酸性ガスが付加されたNAS吸収液を得るステップと、
(b)温度、圧力、及び流量に関する第2組の制御された条件下で、前記酸性ガスが付加されたNAS吸収液を再生ゾーンに送るとともに、前記酸性ガスが付加されたNAS吸収液の再生処理を行って酸性ガスの一部を排出し、再生NAS吸収液を得るステップと、
(c)前記再生NAS吸収液を前記ステップ(a)に送るステップと、
(d)前記NAS吸収液から水分リッチ相を分離し、水分量を調節し、前記水分リッチガス流から酸性ガスを除去するための分離装置を設ける必要がなくなるように、前記第1組の条件及び前記第2組の条件を制御するステップと
を含むプロセス。
IPC (3件)：
B01D 53/14
, B01D 53/62
, B01D 53/78
B01D53/14 210
, B01D53/62
, B01D53/78
, B01D53/14 220
4D002AA09
, 4D002AB01
, 4D002AC01
, 4D002AC05
, 4D002BA02
, 4D002DA31
, 4D002DA33
, 4D002DA34
, 4D002DA53
, 4D002DA70
, 4D002EA01
, 4D002EA08
, 4D002GA01
, 4D002GA03
, 4D002GB01
, 4D002GB02
, 4D002GB04
, 4D002GB06
, 4D002GB11
, 4D002GB20
, 4D002HA08
, 4D020AA03
, 4D020BB04
, 4D020BC01
, 4D020BC02
, 4D020CC09
, 4D020CC10
, 4D020DA01
, 4D020DA03
, 4D020DB01
, 4D020DB02
, 4D020DB03
, 4D020DB04
, 4D020DB05
, 4D020DB06
, 4D020DB20
