低温反応装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：木戸一彦 , 木戸良彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-162881
公開番号（公開出願番号）：特開2015-029970
特許番号：特許第6192417号
出願日： 2013年08月06日
公開日（公表日）： 2015年02月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 2種類以上の原料物質を供給して低温下で反応させる低温反応装置において、前記2種類以上の原料物質を混合して反応させる混合反応部を収容してあらかじめ設定された低温状態に保持する低温恒温槽を備え、該低温恒温槽の上部に、前記2種類以上の原料物質をそれぞれ供給する複数の原料物質供給部を配置し、該低温恒温槽の下部に、反応後の生成物を取り出す反応生成物取出部を配置するとともに、前記原料物質供給部、前記混合反応部及び前記反応生成物取出部を鉛直方向に配列し、前記2種類以上の原料物質は、前記低温状態で凝縮する気体原料と、前記低温状態で凝固しない液体原料とであり、前記気体原料の供給圧力は、前記液体原料の供給圧力に対して0.05〜0.20MPa高く設定されていることを特徴とする低温反応装置。

IPC (1件)：

B01J 19/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

B01J 19/00 321 , B01J 19/00 301 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

ガス塵埃捕集システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-232822 出願人：株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社
試料導入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-012189 出願人：株式会社島津製作所
特開昭53-135885

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