特許
J-GLOBAL ID:201703020414813118
制御装置、荷電粒子ビーム装置、プログラム及び加工品を生産する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
志賀 正武
, 鈴木 慎吾
, 西澤 和純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-062280
公開番号(公開出願番号):特開2017-174748
出願日: 2016年03月25日
公開日(公表日): 2017年09月28日
要約:
【課題】イオンビーム加工の加工面の形成方向の制約を緩和しつつ、カーテニングを抑制することができる。【解決手段】制御装置は、互いに平行でない少なくとも2つの回転軸を有する加工ステージと、所定の方向から荷電粒子ビームを照射することにより加工ステージ上の加工対象物を加工する照射部とを備える荷電粒子ビーム装置を制御する制御装置であって、いずれの回転軸にも平行でない法線を有する加工面が照射部によって加工対象物に生成される第1加工の方向と、第1加工によって生成される加工面に対して、第1加工の方向とは異なる方向から照射部によって加工される第2加工の方向とに基づいて、第1加工の方向から第2加工の方向に加工ステージの方向を変化させる回転軸まわりの回転角を算出する角度算出部を備える。【選択図】図2
請求項(抜粋):
互いに平行でない少なくとも2つの回転軸を有する加工ステージと、所定の方向から荷電粒子ビームを照射することにより前記加工ステージ上の加工対象物を加工する照射部とを備える荷電粒子ビーム装置を制御する制御装置であって、
いずれの前記回転軸にも平行でない法線を有する加工面が前記照射部によって前記加工対象物に生成される第1加工の方向と、前記第1加工によって生成される前記加工面に対して、前記第1加工の方向とは異なる方向から前記照射部によって加工される第2加工の方向とに基づいて、前記第1加工の方向から前記第2加工の方向に前記加工ステージの方向を変化させる前記回転軸まわりの回転角を算出する角度算出部
を備える制御装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01J37/20 A
, H01J37/317 D
Fターム (5件):
5C001AA01
, 5C001AA05
, 5C001AA06
, 5C001AA08
, 5C034DD09
引用特許:
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