特許
J-GLOBAL ID：201703020444930119
気相成長装置および気相成長方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-016015
公開番号（公開出願番号）：特開2014-146767
特許番号：特許第6134522号
出願日： 2013年01月30日
公開日（公表日）： 2014年08月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 反応室と、
第1のプロセスガスを供給する第1のガス供給路と、
前記第1のプロセスガスと異なる第2のプロセスガスを供給する第2のガス供給路と、
前記反応室の上部に配置され、前記反応室内にガスを供給するシャワープレートと、
前記反応室内の前記シャワープレート下方に設けられ、基板を載置可能な支持部と、を備える気相成長装置であって、
前記シャワープレートが、前記第1のガス供給路に接続される一対の第1のマニフォールドと、前記一対の第1のマニフォールドより下方の第1の水平面内に配置され互いに平行に延伸する複数の第1の横方向ガス流路と、前記一対の第1のマニフォールドと前記第1の横方向ガス流路とを前記第1の横方向ガス流路の両端部で接続し縦方向に延伸する第1の接続流路と、前記第1の横方向ガス流路に接続され縦方向に延伸し前記反応室側に第1のガス噴出孔を有する複数の第1の縦方向ガス流路と、前記第2のガス供給路に接続され、前記第1の水平面より上方に設けられる一対の第2のマニフォールドと、前記第1の水平面より上方で前記一対の第2のマニフォールドより下方の第2の水平面内に配置され前記第1の横方向ガス流路と同一方向に互いに平行に延伸する複数の第2の横方向ガス流路と、前記一対の第2のマニフォールドと前記第2の横方向ガス流路とを前記第2の横方向ガス流路の両端部で接続し縦方向に延伸する第2の接続流路と、前記第2の横方向ガス流路に接続され前記第1の横方向ガス流路の間を通って縦方向に延伸し前記反応室側に第2のガス噴出孔を有する複数の第2の縦方向ガス流路と、を備えることを特徴とする気相成長装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, C23C 16/455 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, C23C 16/455
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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