特許
J-GLOBAL ID:201703020483850483

半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人筒井国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-087671
公開番号(公開出願番号):特開2016-207827
出願日: 2015年04月22日
公開日(公表日): 2016年12月08日
要約:
【課題】半導体装置の性能を向上させる。【解決手段】半導体装置は、ゲート電極3g、ソース電極3sおよびドレイン電極3dを有するノーマリオン型の接合FET3と、ゲート電極4g、ソース電極4sおよびドレイン電極4dを有するノーマリオフ型のMOSFET4と、を有する。接合FET3は、接合FET3のソース電極3sが、MOSFET4のドレイン電極4dと電気的に接続されることにより、MOSFET4と直列に接続されている。接合FET3のゲート電極3gは、MOSFET4のゲート電極4gと電気的に接続されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1ゲート電極、第1ソース電極および第1ドレイン電極を有するノーマリオン型の接合FETと、 第2ゲート電極、第2ソース電極および第2ドレイン電極を有するノーマリオフ型のMOSFETと、 を有し、 前記接合FETは、前記第1ソース電極が前記第2ドレイン電極と電気的に接続されることにより、前記MOSFETと直列に接続され、 前記第1ゲート電極は、前記第2ゲート電極と電気的に接続されている、半導体装置。
IPC (12件):
H01L 21/337 ,  H01L 21/338 ,  H01L 29/808 ,  H01L 29/812 ,  H01L 27/098 ,  H01L 29/78 ,  H01L 29/12 ,  H01L 27/04 ,  H01L 29/861 ,  H01L 29/868 ,  H01L 29/06 ,  H02M 7/48
FI (18件):
H01L29/80 V ,  H01L29/80 C ,  H01L29/78 652K ,  H01L29/78 652T ,  H01L29/78 657A ,  H01L29/78 657E ,  H01L29/78 652F ,  H01L29/78 653A ,  H01L29/78 652N ,  H01L29/91 C ,  H01L29/91 F ,  H01L29/91 K ,  H01L29/06 301G ,  H01L29/06 301V ,  H01L29/78 657G ,  H01L29/78 652S ,  H02M7/48 Z ,  H01L29/78 656A
Fターム (22件):
5F102FA01 ,  5F102FA02 ,  5F102GB04 ,  5F102GC09 ,  5F102GD04 ,  5F102GJ02 ,  5F102GL04 ,  5H770AA11 ,  5H770AA22 ,  5H770BA05 ,  5H770CA01 ,  5H770CA02 ,  5H770DA03 ,  5H770DA41 ,  5H770JA06Z ,  5H770JA10X ,  5H770JA18X ,  5H770QA01 ,  5H770QA04 ,  5H770QA05 ,  5H770QA06 ,  5H770QA08
引用特許:
審査官引用 (3件)

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