特許
J-GLOBAL ID:201703020796077165

放射性構成物およびそれらの治療的使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  福本 積 ,  古賀 哲次 ,  渡辺 陽一 ,  武居 良太郎 ,  伊藤 洋介
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-548954
特許番号:特許第6219841号
出願日: 2012年12月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】治療領域に特異的に放射線量を与えるための、非密封放射性で医薬的に許容される式(I)の構成物 Qq-Tt-Aa-Bb-Cc-Rr:式(I) (式中、 Qは、Aa-Bb-Cc要素(entity)とは異なる材料の基質であり、ここでこの基質にはAa-Bb-Cc要素が堆積または付着しており;かつ、この基質は医薬的に許容されているかまたは医薬的に許容されるように被覆されているかのいずれかである注入可能または移植可能な基質であり; qは1または0に等しく、ここで1はこの要素が存在することを意味し、そして0はこの要素が存在しないことを意味し; Tは、非放射性の水酸化鉄、酸化鉄、ガドリニウム水酸化物またはガドリニウム酸化物であり; tは1または0に等しく、ここで1はこの要素が存在することを意味し、そして0はこの要素が存在しないことを意味し; Aは、JvM*w(OH)x(CO3)y(AN)z・nH2O、(式中、 Jは、ヒドロキシ炭酸塩化合物を形成可能なランタニド金属イオンであり; vは0より大きいかまたは等しく; M*は、放射性Sm-153、Ho-166、Y-90、もしくはLu-177またはそれらの混合物であり、ここでそれらの各非放射性希土類種金属が通常存在し; w、xおよびyはそれぞれ独立して0より大きく; ANは、医薬的に許容されるアニオン性部分であり;かつ zおよびnはそれぞれ独立して0より大きいかまたは等しい)であり; aは1または0に等しく、ここで1はこの要素が存在することを意味し、そして0はこの要素が存在しないことを意味し; Bは、M*w(OH)x(CO3)y・nH2O(式中、 M*は、放射性Sm-153、Ho-166、Y-90、もしくはLu-177またはそれらの混合物であり、ここでそれらの各非放射性希土類種金属が通常存在し; w、xおよびyはそれぞれ独立して0より大きく;かつ nは0より大きいかまたは等しい)であり; bは1または0に等しく、ここで1はこの要素が存在することを意味し、そして0はこの要素が存在しないことを意味し; Cは、Sn(L)u-{Mw(OH)x(CO3)y・nH2O}p(式中、 Snは、放射性錫(IV)-117mであるが、非放射性錫同位体も含有しており; Lは、Sn(L)uが含水酸化第二錫、水酸化第二錫、もしくはオキシ水酸化第二錫となるような含水酸化物、水酸化物、もしくオキシ水酸化物、またはそれらの混合物であり; uは0より大きく; Mは、希土類種金属、またはその混合物であり、ここでMはさらにY-90、Sm-153、Ho-166、もしくはLu-177、またはそれらの混合物からなる群より選択される放射性希土類種金属を含むことがあり; w、xおよびyはそれぞれ独立して0より大きく; nは0より大きいかまたは等しく;かつ pは1または0に等しく、ここで1はこの要素が存在することを意味し、そして0はこの要素が存在しないことを意味する)であり; cは1または0に等しく、ここで1はこの要素が存在することを意味し、そして0はこの要素が存在しないことを意味し; Rは、Aa-Bb-Cc要素とは異なる組成の物質を含む被覆材であり、これは、Aa-Bb-Ccを被覆し、そして、qが1である場合、基質Qをも被覆し、そして得られる被覆された構成物は注入用として医薬的に許容されており;かつ rは1または0に等しく、ここで1はこの要素が存在することを意味し、そして0はこの要素が存在しないことを意味し; 但し、a、bおよびcのうちたった1つのみが1に等しく、他は0と等しく(すなわちA、B、もしくはCのうちたった1つのみが存在する);cが1に等しい場合、pは1に等しく;qもしくはtのいずれか一方が1に等しい場合、他方は0に等しく(すなわちQもしくはTの一方のみが場合により存在してもよい);u、v、w、x、yおよびzの各々は、電気的中性が得られるような小数値を含む数値であり;そしてnは任意の水和水となるように0より大きいかまたは等しい)を含み、 ここで、式(I)の構成物は、放射性Sn(IV)-117m塩および/またはSm-153、Ho-166、Y-90およびLu-177から選択される放射性金属塩を、(a)80°C超の温度で尿素の存在下、または(b)室温でウレアーゼを使用する酵素触媒による、いずれかで反応させ; いずれの反応も水性溶液中で行い、ここで非放射性塩も存在している均質沈殿の手順により調製される、前記構成物。
IPC (5件):
A61K 51/00 ( 200 6.01) ,  A61P 35/00 ( 200 6.01) ,  A61P 31/00 ( 200 6.01) ,  A61P 19/02 ( 200 6.01) ,  A61K 101/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
A61K 51/00 100 ,  A61P 35/00 ,  A61P 31/00 ,  A61P 19/02 ,  A61K 101:00
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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