特許
J-GLOBAL ID：201703021010641735

プラズマエッチング装置

発明者：
山田 智広

山田 智広 について


出願人/特許権者：
株式会社ディスコ

株式会社ディスコ について


代理人 (2件)： 松本 昂 ,  岡本 知広
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-222904
公開番号（公開出願番号）：特開2015-088497
特許番号：特許第6143356号
出願日： 2013年10月28日
公開日（公表日）： 2015年05月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被加工物を保持する保持面を有する静電チャックテーブルと、処理ガスをプラズマ化して噴射するプラズマ生成手段と、該静電チャックテーブルと該プラズマ生成手段とを収容し該静電チャックテーブルに保持された被加工物をエッチングするエッチングチャンバーと、該エッチングチャンバー内を減圧する第1減圧手段と、を備えたプラズマエッチング装置であって、 該プラズマ生成手段は、噴射部を上に向けて該エッチングチャンバーの下方位置に配設され、該静電チャックテーブルは保持面を下に向け該噴射部に対向して該エッチングチャンバーの上方位置に配設されており、 該静電チャックテーブルの保持面の反対側には水の層を形成する水チャンバーが配設され、 該水チャンバーは水導入部を介して水供給源に連結されるとともに、気体排出部を介して第2減圧手段に連結されており、 該水チャンバーには、該水チャンバー内に水を供給する水供給手段と該水チャンバー内の水位を検出する水位検出手段とが配設されており、 該水チャンバー内を該第2減圧手段により減圧して水の核沸騰によって該静電チャックテーブルを冷却することを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  H01L 21/301 ( 200 6.01)
FI (2件)：
H01L 21/68 R ,  H01L 21/78 S
引用特許：
出願人引用 (6件)
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