- 2021 - 2024 液体プロセスによる新規低温半導体表面及びカットエッジパッシベーション
- 2018 - 2020 PN接合内蔵電位依存少数キャリヤ再結合欠陥調査及び解析の研究
- 2017 - 2018 超高効率・低コストIII-V化合物太陽電池モジュールの研究開発(メカニカルスタック)
- 2016 - 2017 超高効率・低コストIII-V化合物太陽電池モジュールの研究開発(メカニカルスタック)
- 2017 - 2017 炭素ホットイオン注入法を用いた二次元シリコンカーバイド及びグラフェンの基盤研究
- 2015 - 2016 イオン注入と加熱処理プロセス技術に関する研究
- 2015 - 2016 超高効率・低コストIII-V化合物太陽電池モジュールの研究開発(メカニカルスタック)
- 2015 - 2016 マイクロ波急速加熱による高品質ナノシリコン結晶形成技術開発
- 2015 - 2015 マイクロ波急速加熱による高品質ナノシリコン結晶形成技術開発
- 2014 - 2015 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2013 - 2015 金属仕事関数誘起高効率シリコンソーラーセルの研究
- 2014 - 2014 半導体単原子層を用いた超微細素子の基盤研究
- 2012 - 2013 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2013 - 2013 半導体単原子層を用いた超微細素子の基盤研究
- 2013 - 2013 界面構造設計した高機能化ナノ粒子の太陽電池デバイスへの応用
- 2011 - 2013 結晶シリコンソーラーセルの水蒸気熱処理による特性改善機構の解明
- 2011 - 2012 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2012 - 2012 半導体単原子層を用いた超微細素子の基盤研究
- 2012 - 2012 界面構造設計した高機能化ナノ粒子の太陽電池デバイスへの応用
- 2010 - 2012 マイクロ波フリーキャリヤ吸収法による非熱平衡プロセス処理起因欠陥とその制御の研究
- 2010 - 2011 フリーキャリア吸収によるSi基板中の微量欠陥の定量評価
- 2010 - 2011 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2010 - 2011 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2011 - 2011 界面構造設計した高機能化ナノ粒子の太陽電池デバイスへの応用
- 2011 - 2011 歪制御による同一半導体を用いたヘテロ素子構造の研究
- 2009 - 2010 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2009 - 2010 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2009 - 2010 高出力赤外半導体レーザを用いた活性化アニール装置の開発
- 2010 - 2010 歪制御による同一半導体を用いたヘテロ素子構造の研究
- 2008 - 2009 シリコン結晶化膜評価技術に関する研究
- 2007 - 2009 シリコン結晶化膜評価技術に関する研究
- 2008 - 2009 半導体プロセスの開発
- 2008 - 2009 高度秩序構造を有する薄膜多接合太陽電池の研究開発(配列制御ナノ結晶シリコン、メカニカルスタック)
- 2008 - 2009 高圧水蒸気アニール技術に関する研究
- 2008 - 2009 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2008 - 2009 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2008 - 2009 水蒸気処理によるソーラーセル欠陥低減技術の事業化調査
- 2009 - 2009 ソースヘテロ構造を用いたバリスティック素子の基盤研究
- 2009 - 2009 歪制御による同一半導体を用いたヘテロ素子構造の研究
- 2007 - 2008 レーザアニール応用技術開発に関する研究
- 2007 - 2008 高圧水蒸気アニール技術に関する研究
- 2007 - 2008 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2007 - 2008 イオンドーピング及び高速熱処理技術による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2007 - 2008 赤外半導体レーザを用いた薄膜シリコン太陽電池の安価製造プロセスの技術開発
- 2008 - 2008 ソースヘテロ構造を用いたバリスティック素子の基盤研究
- 2006 - 2007 レーザアニール応用技術開発に関する研究
- 2006 - 2007 シリコン結晶化膜評価技術に関する研究
- 2006 - 2007 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2006 - 2007 高圧水蒸気アニール技術に関する研究
- 2006 - 2007 ポリシリコンTFT素子作製の超低温化に関する研究
- 2006 - 2007 イオンドービング他による高品質シリコン薄膜形成の研究
- 2005 - 2006 レーザアニール応用技術開発に関する研究
- 2005 - 2006 新規半導体プロセス装置に関する研究
- 2005 - 2006 TFTのプロセス技術に関する研究
- 2005 - 2006 ポリシリコンTET素子作成の超低温化に関する研究
- 2005 - 2006 低温ポリシリコン膜へのイオンドーピングプロセスに関する研究
- 2004 - 2005 半導体熱処理技術の研究
- 2004 - 2005 AI合金薄膜とSi薄膜の接合界面における拡散に関する研究
- 2004 - 2005 P-Si TFTプロセス開発
- 2004 - 2005 ポリシリコンTFT素子作製の超低温化に関する研究
- 2004 - 2005 低コスト、高性能化に向けた新規TFTプロセスの開発
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