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J-GLOBAL ID：201802211816439004   整理番号：18A1976167

水素-アルゴン混合スパッタリング法により作製したBi₂Te₃薄膜の構造評価

Structural Evaluation of Bi₂Te₃ Thin Films Prepared by Hydrogen-Argon Mixing Sputtering

著者 (3件)： TAKANO Kousuke (Department of Materials Science, Tokai University) ,  HAMADA Jun (Department of Materials Science, Tokai University) ,  TAKASHIRI Masayuki (Department of Materials Science, Tokai University)
資料名： Journal of Advanced Science (Web)  (Journal of Advanced Science (Web))
巻： 30  ページ： ROMBUNNO.30105(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： U0417A  ISSN： 1881-3917  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 異なるH₂-Arガス混合比をもつ高周波マグネトロンスパッタリングを用いてテルル化ビスマス(Bi₂Te₃)薄膜を調製し,Bi₂」Te₃薄膜の構造特性を調べた。テルル原子がテルル原子と水素原子の間の化学反応により膜から失われるので,混合比が増加すると薄膜の堆積速度は減少した。この現象は,走査電子顕微鏡観察(SEM),電子プローブマイクロアナライザ(EPMA),およびX線回折法(XRD)などの他の分析の結果で支持された。最も高い結晶性は,5%のH₂「-Arガス混合比で得られた。H₂」ガスを導入したとき,膜表面近くの酸素濃度は減少した。従って,著者らは,Bi₂Te₃薄膜の結晶度と高密度構造が,スパッタリング堆積における水素ガスの最適量を導入することによって改善されたと結論づける。薄膜の電気伝導率は電子輸送の増強により改善されることが期待できる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *テルル化物 ,  *ビスマス化合物 ,  化合物半導体 ,  *水素 ,  *アルゴン ,  *混合気体 ,  電気伝導率 ,  *半導体薄膜 ,  *結晶度 ,  電子顕微鏡観察 ,  X線回折 ,  混合比 ,  *スパッタ蒸着 ,  *最適化
準シソーラス用語： テルル化ビスマス ,  走査電子顕微鏡観察

著者キーワード (3件)： 水素-アルゴン混合 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  Bi_2Te_3薄膜

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

引用文献 (34件)：

• D. M. Rowe, Renewable Energy, 16, pp. 1251-1256 (1999).
• L. Rauscher, S. Fujimoto, H. T. Kaibe and S. Sano, Meas. Sci. Technol., 16, pp. 1054-1059 (2005).
• K. Takayama and M. Takashiri, Vacuum, 144, pp. 164-171 (2017).
• H. Yamamuro, N. Hatsuta, M. Wachi, Y. Takei and M. Takashiri, Coatings, 8, p. 22 (2018).
• Y. Ito, M. Mizoshiri, M. Mikami, T. Kondo, J. Sakurai and S. Hata, Jpn. J. Appl. Phys., 56, 06GN06 (2017).

タイトルに関連する用語 (6件)： 水素 ,  アルゴン ,  スパッタリング法 ,  作製 ,  薄膜 ,  構造評価