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J-GLOBAL ID:201802212439567268   整理番号:18A1341988

LSI一体集積のためのシリコン上PbS量子ドット赤外フォトダイオードの試作

Fabrication of PbS QD/Silicon Hybrid Infrared Photodiode for LSI Platform
著者 (10件):
資料名:
巻: 138  号:ページ: 307-311(J-STAGE)  発行年: 2018年 
JST資料番号: L3098A  ISSN: 1341-8939  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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大規模集積シリコンベースデバイスによる近赤外検出器は,画像センサに関する安全な応用で非常に魅力的である。シリコンバンドギャップを超えて,PbSコロイド量子ドット(CQD)とシリコン集積に焦点を合わせた。本論文では,PbS CQDとシリコンハイブリッドIR検出器の作製プロセスを調べた。PbS CQD薄膜の温度依存光ルミネセンスを測定し,PbS CQDのバンドギャップが種々の温度で変化しないことを見出した。分光計による光学応答が1550nm領域で観測された。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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ダイオード  ,  その他の固体デバイス 
引用文献 (9件):

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