文献
J-GLOBAL ID:201802223467513117   整理番号:18A1200330

トポグラフィー構造化基板上のAuPd合金膜の溶融相脱濡れ特性に関する実験的解析【JST・京大機械翻訳】

Experimental Analysis on the Molten-Phase Dewetting Characteristics of AuPd Alloy Films on Topographically-Structured Substrates
著者 (1件):
資料名:
巻:号:ページ: 327  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7244A  ISSN: 2075-4701  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
堆積したAuPd膜のナノ秒レーザ照射誘起脱濡れ過程により,フッ素ドープ酸化スズ(FTO)上にAuPdナノ粒子を形成した。特に,デウェッティング過程に及ぼす基板の表面トポグラフィーの影響を解析し,形成されたナノ粒子の最終平均サイズに及ぼす影響を解析した。実際に,表面トポグラフィーで異なる2つの支持FTO基板を用いた。それは,同じFTO層,すなわち基板Aの蒸着過程の結果として,ガラススライド上にランダムに分布したFTOピラミッドによって形成されるので,意図的にパターン形成されないFTO層を用いた。さらに,化学エッチング過程の結果として,基板B,すなわち基板Bを用いて,基板Aに関して最近接ピラミッド間のより高い粗さとより高い平均距離を示した。レーザ照射による得られたAuPd NPsのサイズに関する結果は,基板トポグラフィーが脱濡れ過程に影響することを示した。特に,堆積したAuPd膜の臨界厚さ以下では,基板AとB上に形成されたNPは類似のサイズを持ち,膜厚に対するサイズの変化(すなわち,膜が基板トポグラフィーと相互作用しないので,脱濡れ過程は基板トポグラフィーによって影響されない)を見出した。しかし,堆積したAuPd膜の臨界厚さ以上では,AuPd NPsは基板A上より基板B上でより高い平均サイズ(膜厚に対して)を示し,AuPd膜が脱濡れ過程で基板トポグラフィーと相互作用することを示した。これらの結果を定量化し,脱濡れ過程を駆動する化学ポテンシャルの過剰に対する基板トポグラフィ効果の記述により議論した。Copyright 2018 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属薄膜 
引用文献 (72件):
もっと見る
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る