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J-GLOBAL ID:201802224726686038   整理番号:18A0995170

真空型エレクトロスプレイ液滴イオンビームにより生成した相対二次イオン収率【JST・京大機械翻訳】

Relative secondary ion yields produced by vacuum-type electrospray droplet ion beams
著者 (3件):
資料名:
巻: 36  号:ページ: 03F134-03F134-8  発行年: 2018年 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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比較的新しいエレクトロスプレイ液滴衝突法は大気圧でのエレクトロスプレイに基づいており,生物学的分子の効率的な脱着/イオン化,高分子のソフトエッチング,および金属酸化物の非選択的エッチングを達成するのに成功している。しかし,この方法のビーム電流と輝度は表面解析には実用的ではない。この方法の性能を改善するために,真空中の水溶液のエレクトロスプレーを用いた新しい液滴イオンビーム銃を開発した。この技術は,高強度の塊状クラスタイオンビームとして期待され,真空型エレクトロスプレイ液滴イオン(V-EDI)ガンの性能を評価することができる。本研究では,いくつかのクラスタイオンビームによって生成されたいくつかの生体分子の相対的二次イオン収率を直接比較するために,V-EDIとガスクラスタイオンビーム銃を飛行時間分析器に設置した。(翻訳著者抄録)【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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固体デバイス製造技術一般  ,  電子ビーム・イオンビームの応用 
タイトルに関連する用語 (5件):
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