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J-GLOBAL ID：201802230280183829   整理番号：18A0315465

調節可能な屈折率を持った光架橋ポリシラン/ジアリールフルオレンブレンド膜の作製

Fabrication of Photocrosslinked Polysilane/diarylfluorene Blended Films with Tunable Refractive Indices

著者 (6件)： Okamura Haruyuki (Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University) ,  Iseki Masashi (Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University) ,  Degawa Kaai (Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University) ,  Matsumoto Akikazu (Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University) ,  Minokami Keiko (Fine Materials Business Division, Osaka Gas Chemicals Co., Ltd.) ,  Miyauchi Shinsuke (Fine Materials Business Division, Osaka Gas Chemicals Co., Ltd.)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 30  号： 6  ページ： 683-688(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 405nmにおける照射により光酸発生剤の存在下,エポキシとオキセタン部分構造を持ったジフェニル-またはジナフチルフルオレンとポリシラン類のブレンドの光架橋膜を開発した。可視光照射間,ポリシラン類Si-Si結合の光誘起分解を,うまく抑えた。このブレンドのカチオン性光架橋特性は,露光後ベーク条件と照射線量により強く影響を受けた。ポリシラン部分構造を,末端OH基との重合停止反応によって膜に取り込んだ。高屈折率(nd:1.70)を持った膜を首尾よく作製して,そして,屈折率値は,254nmでの照射による,ポリシラン類のSi-Si結合の分解により調節可能であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ポリシラン ,  *芳香族縮合炭化水素 ,  調合 ,  光酸発生剤 ,  環状エーテル ,  光架橋 ,  *屈折率 ,  *高分子膜 ,  照射線量 ,  反応機構 ,  酸触媒反応 ,  *重合体
準シソーラス用語： エポキシ化合物 ,  オキセタン誘導体 ,  *フルオレン誘導体 ,  ブレンド ,  *架橋高分子 ,  高屈折率

著者キーワード (6件)： Photocrosslinking ,  Fluorene ,  Epoxide ,  Polysilane ,  Photoacid generator ,  High refractive index

分類 (2件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

引用文献 (20件)：

• 1. J. P. Fouassier and J. F. Rabek, “Radiation Curing in Polymer Science and Technology”, Elsevier Applied Science, New York (1993).
• 2. H. Okamura, J. Network Polym. Jpn., 27 (2016) 224 (in Japanese).
• 3. D. Matsukawa, H. Okamura, and M. Shirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 23 (2010) 125.
• 4. H. Okamura, Y. Ueda, and M. Shirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 26 (2013) 245.
• 5. H. Okamura, H. Naito, and M. Shirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 21 (2008) 285.

タイトルに関連する用語 (5件)： 調節 ,  屈折率 ,  光架橋 ,  ポリシラン ,  作製