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J-GLOBAL ID：200902284869532142   整理番号：08A0675571

チアントレン骨格を持つI線対応型非イオン光酸発生剤

I-Line Sensitive Non-ionic Photoacid Generators Having Thianthrene Skeleton

著者 (3件)： OKAMURA Haruyuki (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  NAITO Hideaki (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI Masamitsu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 21  号： 2  ページ： 285-288  発行年： 2008年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： i線対応型光酸発生剤(PAGs)であるチアントレン成分を持ったイミドスルホネート誘導体をベースにした二つの化合物,N-トリフルオロメタンスルホフォニロキシ-7-メチルチアントレン-2,3-ジカルボン酸イミド(tert-THITf)とN-ペンタフルオロベンゼンスルホフォニロキシ-7-メチルチアントレン-2,3-ジカルボン酸イミド(tert-THIPS)の新しい合成ルートを報告し,化合物の溶解性,熱分解温度,光分解性を調べた。上記新しいPAGsを用いたポリ(グリシジルメタクリレート)(PGMA)の光架橋を行い焼成後の不溶化についても調べ,PGMAの光架橋剤として有用であることが分かった。

シソーラス用語： ポリメタクリル酸グリシジル ,  *光酸発生剤 ,  芳香族縮合化合物 ,  硫黄複素環化合物 ,  光架橋 ,  化学増幅レジスト ,  紫外線照射 ,  不溶化

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  橋かけ  (YH04100E)

物質索引 (4件)： 4,5-ジクロロフタルイミド ,  4-tert-ブチル-1,2-ベンゼンジチオール ,  N-[(トリフルオロメチルスルホニル)オキシ]7-tert-ブチルチアントレン-2,3-ジカルボイミド ,  N-[(ペンタフルオロフェニルスルホニル)オキシ]7-tert-ブチルチアントレン-2,3-ジカルボイミド

引用文献 (11件)：

• F. Ortica, J. C. Scaiano, G. Pohlers, J. F.Cameron, A. Zampini, Chem. Mater., 12(2000)414.
• K. Naitoh, T. Yamaoka, A. Umehara, Chem.Lett.,(1991)1869.
• H. Okamura, Y. Watanabe, M. Shirai, M. Tsunooka, T. Fujiki, S. Kawasaki, M. Yamada, J.Photopolym. Sci. Technol., 15(2002)145.
• H. Okamura, K. Sakai, M. Tsunooka, M. Shirai, T. Fujiki, S. Kawasaki, M. Yamada, J. Photopolym. Sci. Technol., 16(2003)87.
• C. Iwashima, G. Imai, H. Okamura, M. Tsunooka, M. Shirai, J. Photopolym. Sci. Technol., 16(2003)91.

タイトルに関連する用語 (4件)： チアントレン ,  骨格 ,  イオン ,  光酸発生剤