文献

J-GLOBAL ID：201802240576253352   整理番号：18A0281756

陽子ビーム描画によるナノ粒子を含むエポキシレジストの微細構造化【Powered by NICT】

Micro-structuring of epoxy resists containing nanoparticles by proton beam writing

著者 (6件)： Sano Ryo (Dept. of Electrical Engineering, Shibaura Institute of Technology (SIT), 3-7-5 Toyosu, Koto-ku, Tokyo 135-8548, Japan) ,  Hayakawa Simon (Dept. of Electrical Engineering, Shibaura Institute of Technology (SIT), 3-7-5 Toyosu, Koto-ku, Tokyo 135-8548, Japan) ,  Hayashi Hidetaka (SIT Research Laboratories, SIT, 307 Fukasaku, Minuma-ku, Saitama-shi, Saitama 337-8570, Japan) ,  Ishii Yasuyuki (Takasaki Advanced Radiation Research Institute, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology (QST), 1233 Watanuki-machi, Takasaki-shi, Gunma 370-1292, Japan) ,  Nishikawa Hiroyuki (Dept. of Electrical Engineering, Shibaura Institute of Technology (SIT), 3-7-5 Toyosu, Koto-ku, Tokyo 135-8548, Japan) ,  Nishikawa Hiroyuki (SIT Research Laboratories, SIT, 307 Fukasaku, Minuma-ku, Saitama-shi, Saitama 337-8570, Japan)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 404  ページ： 228-232  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 5.0wt%濃度の銀,シリカ,アルミナ,および炭素のナノ粒子(サイズ:14 750nm)のSU-8複合材料への陽子ビーム描画(PBW)は,高アスペクト比微細構造形成を目指して研究した。SRIMシミュレーションの結果は,100μm以上のディープマイクロマシニングは3.0MeV PBWにより可能である5.0%以下の横方向ストラグリングの増加によることを示唆した。SU-8への5.0wt%ナノ粒子の導入により観察した150%の感度損失。ナノ粒子の感度損失と体積濃度の間に相関がある。は3.0MeVでのPBWによる高さの直径10μmと80μmのSU-8/銀ナノ複合材料のピラーアレイを作製した。SU-8/銀ピラーアレイの断面観察は,銀ナノ粒子がSU-8中に均一に分散したことを示したが,凝集は側面で観察された。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 二酸化ケイ素 ,  銀 ,  アルミナ ,  シミュレーション ,  *レジスト ,  炭素 ,  *微細構造 ,  *ナノ粒子 ,  ナノ複合材料 ,  凝集 ,  銀ナノ粒子 ,  体積濃度 ,  高アスペクト比
準シソーラス用語： ピラーアレイ ,  *陽子ビーム描画 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： プロトンビーム書込み ,  エポキシ ,  レジスト ,  Nanocomposites ,  ナノ粒子

分類 (1件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F)

タイトルに関連する用語 (3件)： 陽子ビーム描画 ,  ナノ粒子 ,  微細構造