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J-GLOBAL ID：201802241055026145   整理番号：18A0012760

材料加工のための旋回正方形容量性RF放電プラズマスパッタリングソースの性能

Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing

著者 (4件)： HOSSAIN Md. Amzad (Saga Univ., Saga, JPN) ,  HOSSAIN Md. Amzad (Jessore Univ. Sci. and Technol., Jessore, BGD) ,  OHTSU Yasunori (Saga Univ., Saga, JPN) ,  TABARU Tatsuo (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
資料名： Plasma Chemistry and Plasma Processing  (Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 37  号： 6  ページ： 1663-1677  発行年： 2017年11月 
JST資料番号： H0836A  ISSN： 0272-4324  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 8本のネオジム棒磁石からなる旋回正方形磁石配置を用いたRF磁化プラズマスパッタリングソースを評価するために,銅ターゲットを使用して,Siウエハ基板上に蒸着した銅薄膜の厚さ,抵抗率プロファイル,および微細構造を分析した。磁気シールドに使用する鉄シールドのある場合とない場合,薄膜の性質を検討するために,の二つの磁気配置を調査した。推定されたプラズマ密度は,鉄シールドのある場合とない場合それぞれ1.1×10¹⁰cm^-3と8.4×10⁹cm^-3であった。厚さプロファイルの粗さは,鉄シールドのある場合とない場合それぞれ,約±8.06%と±24.45%であった。銅薄膜の粗さは,鉄シールドのある場合とない場合それぞれ,約2.49nmと約3.73nmであった。また,銅薄膜のX線回折パターンの調査も行った。

シソーラス用語： RF放電 ,  プラズマ ,  *スパッタリング ,  加工 ,  永久磁石 ,  *スパッタリング装置 ,  金属薄膜 ,  磁気遮蔽 ,  X線回折 ,  材料加工 ,  銅薄膜
準シソーラス用語： ネオジム磁石 ,  磁気シールド

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 材料加工 ,  旋回 ,  正方形 ,  容量性 ,  RF放電 ,  プラズマスパッタリング ,  ソース