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J-GLOBAL ID：201802243792815404   整理番号：18A0582811

メソ多孔質シリカ基板上の薄い(単一三重)ニオブ酸化物層【Powered by NICT】

Thin (single-triple) niobium oxide layers on mesoporous silica substrate

著者 (7件)： Kondo Junko N. (Laboratory for Chemistry and Life Science, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology, 4259-R1-10 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan) ,  Kondo Junko N. (JST-PRESTO, 4-1-8 Honcho, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan) ,  Hiyoshi Yuki (Laboratory for Chemistry and Life Science, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology, 4259-R1-10 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan) ,  Osuga Ryota (Laboratory for Chemistry and Life Science, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology, 4259-R1-10 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan) ,  Ishikawa Asako (JST-PRESTO, 4-1-8 Honcho, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan) ,  Wang Yu-Hsiang (The Graduate Institute of Environmental Engineering, National Taiwan University, 2 F, No.13-2, Qingtian St, Daan Dist., Taipei City, Taiwan) ,  Yokoi Toshiyuki (Laboratory for Chemistry and Life Science, Institute of Innovative Research, Tokyo Institute of Technology, 4259-R1-10 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan)
資料名： Microporous and Mesoporous Materials  (Microporous and Mesoporous Materials)
巻： 262  ページ： 191-198  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0642C  ISSN： 1387-1811  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Nb_2O_5層は乾燥条件とそれに続く加水分解と縮合により下のNb(OEt)5の表面シラノール(SiOH)基の反応によって原子レベル制御における厚さを有するメソ多孔性シリカ(SBA 15)上に構築した。反応でNb_2O_5の最大被覆率を,Nb/Si=0.07のSBA-15の表面積(13.4 wt%)の約半分,単分子層Nb_2O_5シートから構成されていた。同じ手順を繰り返すことにより,単一,二重,三重層は1回,2回,三回処理により段階的に生産した,厚さNb_2O_5シートのさらなる成長はなかった。このように,メソ多孔性構造を維持し,SBA-15の表面は,メソ多孔性Nb_2O_5の薄層から成るに変換した。離散層成長を,単一,二重および三重層,バルクNb_2O_5(3.4 eV)のバンドギャップよりはるかに高い4.1%,4.0%および3.9eVの励起エネルギーを持つUV-Vis吸収の鋭い吸収端により確認された。三重層Nb_2O_5シートのNb/Si比は0.23で,33.7wt%に相当し,生成したNb_2O_5は500°Cでのか焼後でも非晶質であった非晶質Nb_2O_5の酸性は500°C以上の生存通常Nb_2O_5の相転移は結晶,TT相(擬六方晶)に500°C以下で起こるので,本研究で調製した多層非晶質Nb_2O_5薄膜は高い表面積(>400m~2g~( 1))と均一な円筒状細孔系をもつ材料の新しいタイプである。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 単分子層 ,  バンドギャップ ,  化学合成 ,  *二酸化ケイ素 ,  細孔 ,  六方晶系 ,  非晶質 ,  多層 ,  相転移 ,  *酸化ニオブ ,  表面積 ,  *ニオブ ,  縮合反応 ,  ケイ素
準シソーラス用語： メソポーラス ,  *メソポーラスシリカ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 酸化ニオブ ,  layer-by-layer形成 ,  非晶質材料 ,  メソ多孔性構造

分類 (1件)： 不均一系触媒反応  (CB06100E)

タイトルに関連する用語 (4件)： メソ多孔質 ,  シリカ基板 ,  ニオブ ,  酸化物層