文献
J-GLOBAL ID:201802245454083673   整理番号:18A0426079

掃引とパルスプログラミングによるTiN/Ti/HfO_2/W抵抗スイッチング素子のマルチレベル能力の研究【Powered by NICT】

Investigation of the multilevel capability of TiN/Ti/HfO2/W resistive switching devices by sweep and pulse programming
著者 (3件):
資料名:
巻: 187-188  ページ: 148-153  発行年: 2018年 
JST資料番号: C0406B  ISSN: 0167-9317  CODEN: MIENEF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
パルスのプログラミング逐次電圧ランプと列車によるTiN/Ti/HfO_2/W RRAM素子における明確に区別できたマルチレベル状態。フィラメントコンダクタンスはSET工程中で使用される電流コンプライアンスとRESETプロセス過程で適用された最大電圧に及ぼす連続的依存性を持つことが示されている。LRSコンダクタンスは電流コンプライアンスにより決定されるが,HRSはRESETパルス振幅によって与えられる。得られた結果は,調べたデバイスは,神経形態学的回路における電子シナプス素子として用いることができることを示唆した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体集積回路  ,  固体デバイス製造技術一般 

前のページに戻る