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J-GLOBAL ID：201802248024861811   整理番号：18A1490639

拡散フィルムへの応用を目的としたスケルトンシリカナノ粒子の設計

著者 (4件)： 高井千加 (日本学術振興会) ,  高井千加 (名古屋工大) ,  藤正督 (名古屋工大) ,  藤本恭一 (名古屋工大)
資料名： 日本ゾル-ゲル学会討論会講演予稿集
巻： 16th  ページ： 86  発行年： 2018年 
JST資料番号： F2071A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  鋳型反応 ,  ゾル-ゲル法 ,  光散乱 ,  透過率 ,  拡散 ,  *複合膜 ,  *光拡散 ,  *中空体
準シソーラス用語： *シリカナノ粒子 ,  テンプレート【鋳型反応】 ,  *光透過率 ,  スケルトン構造 ,  中空粒子

分類 (1件)： その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 拡散 ,  フィルム ,  応用 ,  スケルトン ,  シリカナノ粒子 ,  設計