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J-GLOBAL ID：201802249637118375   整理番号：18A1591127

DMSOと水の混合溶媒中の金ナノロッドの状態図の調製と効率的な表面改質への応用【JST・京大機械翻訳】

Preparation of phase diagram of gold nanorods in mixture solvent of DMSO and water and its application for efficient surface-modification

著者 (8件)： Shou Qinghui (CAS Key Laboratory of Bio-Based Materials, Qingdao Institute of Bioenergy and Bioprocess Technology (QIBEBT), Chinese Academy of Sciences(CAS), Qingdao 266101, China) ,  Ebara Mitsuhiro (International Center for Materials Nanoarchitectonics (MANA), National Institute for Materials Science (NIMS), Tsukuba, Ibaraki 3050044, Japan) ,  Wang Jiaqi (CAS Key Laboratory of Bio-Based Materials, Qingdao Institute of Bioenergy and Bioprocess Technology (QIBEBT), Chinese Academy of Sciences(CAS), Qingdao 266101, China) ,  Wang Qinggang (CAS Key Laboratory of Bio-Based Materials, Qingdao Institute of Bioenergy and Bioprocess Technology (QIBEBT), Chinese Academy of Sciences(CAS), Qingdao 266101, China) ,  Liang Xiangfeng (CAS Key Laboratory of Bio-Based Materials, Qingdao Institute of Bioenergy and Bioprocess Technology (QIBEBT), Chinese Academy of Sciences(CAS), Qingdao 266101, China) ,  Liu Huizhou (CAS Key Laboratory of Bio-Based Materials, Qingdao Institute of Bioenergy and Bioprocess Technology (QIBEBT), Chinese Academy of Sciences(CAS), Qingdao 266101, China) ,  Aoyagi Takao (International Center for Materials Nanoarchitectonics (MANA), National Institute for Materials Science (NIMS), Tsukuba, Ibaraki 3050044, Japan) ,  Aoyagi Takao (Graduate School of Pure and Applied Sciences, University of Tsukuba, 1-1-1 Tennodai, Tsukuba, Ibaraki 305-8577, Japan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 457  ページ： 264-270  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金ナノロッド(AuNR)は様々な生物学的および生物医学的分野で広く研究されている。調製されたAuNRに強く結合したカチオン性二成分界面活性剤セチルトリメチルアンモニウムブロミド(CTAB)の完全な除去は,それらの細胞毒性と表面の更なる機能化のために必要である。ここでは,CTABを除去し,ω-メルカプトカルボン酸により表面を効率的に修飾できる適切な手順を報告する。ジメチルスルホキシド(DMSO)/水(V_DMS:V_AuNR)の体積比で変化するAuNR表面からのCTABの脱離機構とCTABの濃度も研究した。2回遠心分離(C_CTAB=15μM)後の試料に対して,CTABはV_DMS:V_AuNR=0.3~0.5の条件下でAuNRから完全に分離したが,AuNRはV_DMS:V_AuNR=0~0.2または0.6~0.9のいずれかでコロイド安定性を達成した。特に,交差指状CTAB二分子層の完全な除去は,X線光電子分光法表面組成分析により,V_DMS:V_AuNR=0.5で確認された。DMSO/水とCTAB濃度の体積比に関連するAuNRのコロイド安定性に基づいて,AuNRの相図をさらに描いた。CTABの効率的除去のための最小および最大DMSO画分閾値はCTAB濃度の増加と共に一般的に増加した。CTABの除去後,メルカプトヘキサデカン酸(16-MHDA)をAuNRの更なる修飾に利用した。広範囲のCTAB濃度と高いDMSO分率において,修飾後に凝集はなかった。この技術は,多様な応用範囲で使用するためにAuNRの表面を機能化するために使用できる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 二分子層 ,  遠心分離 ,  脱着 ,  界面活性剤 ,  カチオン ,  体積率 ,  X線光電子分光法 ,  細胞毒性 ,  *表面改質 ,  *状態図
準シソーラス用語： 表面組成 ,  コロイド安定性 ,  生物医学 ,  *金ナノロッド ,  *混合溶媒 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 金ナノロッド ,  CTAB ,  DMSO ,  状態図 ,  チオール ,  配位子交換

分類 (2件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (8件)： DMSO ,  水 ,  混合溶媒 ,  金ナノロッド ,  状態図 ,  調製 ,  表面改質 ,  応用