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J-GLOBAL ID：201802249953904088   整理番号：18A0982788

超短パルスレーザーによるナノアブレーション研究の最前線 7.高強度短パルスレーザー照射下にある絶縁材料の第一原理計算

著者 (4件)： 乙部智仁 (量子科学技術研究開発機構) ,  矢花一浩 (筑波大 計算科学研究セ) ,  佐藤駿丞 (マックスプランク研) ,  篠原康 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： プラズマ・核融合学会誌  (Journal of Plasma and Fusion Research)
巻： 94  号： 5  ページ： 266-269  発行年： 2018年05月25日 
JST資料番号： G0114A  ISSN： 0918-7928  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高強度レーザーを絶縁体に照射すると非線形過程による電子励起が起こる。電子励起は絶縁体の光学物性を著しく変化させるため高強度レーザーと誘電体の相互作用は電子ダイナミクスを直接解くことでしか理解することができない。本研究では電子ダイナミクスを記述する時間依存密度汎関数理論と電磁場の伝搬を記述するマックスウェル方程式を結合した多階層シミュレーション手法を開発した。この手法を用いてα水晶のレーザーアブレーション過程を計算することで加工痕の深さを定性的に再現できることが明らかとなった。(著者抄録)

シソーラス用語： *密度汎関数法 ,  計算 ,  絶縁材料 ,  *レーザアブレーション ,  超短パルスレーザ ,  電子励起 ,  パルスレーザ照射 ,  *石英 ,  Maxwell方程式
準シソーラス用語： *TDDFT法 ,  第一原理計算 ,  ナノアブレーション

分類 (1件)： レーザの応用  (BD04100V)

引用文献 (19件)：

• R.R. Gattass and E.Mazur, Nat. Photonics 2, 219 (2008).
• J. Reif, Laser-surface Interactions for New Material Production, edited by A. Miotello and P.M. Ossi (Springer, Berlin, 2010).
• B. Rethfeld, Phys. Rev. Lett. 92, 187401 (2004).
• L.V. Keldysh, Sov. Phys. JETP 20, 1307 (1965).
• E. Runge and E. K. U. Gross, Phys. Rev. Lett. 52, 997 (1984).

タイトルに関連する用語 (6件)： 短パルスレーザー ,  アブレーション ,  研究 ,  高強度 ,  絶縁材料 ,  第一原理計算